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产品简介:高真穹/span>溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优炸/span>,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备、/span>
产品型号 |
GSL-CKJS-450-B1磁控溅射 |
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安装条件 |
本设备要求在海拔1000m以下,温?/span>25ℂ/span>15ℂ/span>,湿?5%Rh10%Rh下使用、/span> 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电9/span>AC380V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注?span>/氩气(纯?9.99%以上),需自备实验气体气瓶(自?10mm双卡套接头)及减压阀 4?/span>场地9/span>设备尺寸35001600mm,承里/span>1000kg以上 5、通风装置:需?/span> |
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主要特点 |
1?/span>真空度高、/span> 2、可制备多种薄膜+/span>金属、半导体、绝缘体等,应用广泛、/span> 3、体积小,操作简便、/span> 4、清理安装便捷、/span> 5?/span>控制可逈/span>一体化触摸屏控刵/span> |
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技术参?/span> |
1?/span>主溅射室尺寸9/span>?450355mm筒形真空宣/span> 2?/span>主溅射室真空?/span>9/span>510-5Pa 3?/span>永磁靵/span>3套,靶材尺寸2′/span>,各靶射频与直流溅射兼容(其?/span>1个靶可溅射铁磁材斘/span>),靶与样品距离90-110mm可调 4、三靶共溅,三个靶可共同折向样品中心,距?0-80mm可调 5、基片加热与水冷独立工作,加热炉可与水冷样品台可互换,加热工?*温度600?#177;1ℂ/span> 6?/span>样品尺寸?#966;1′/span> 7?/span>样品台可连续回转,转逞/span>5-15?刅/span> 8?/span>基片可加-200V负偏厊/span> 9?/span>公转6工位样品台,可一次性安裄/span>6牆/span>1′/span>基片,拆下水冷加热样品台可换?工位样品台,其中5个工位为自然冷却工位?个加热工位,加热工位温度600?#177;1ℂ/span> |
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产品规格 |
整机尺寸9/span>1500900mm2000mm:/span> |
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标准配件 |
1 |
电源控制系统 |
1奖/span> |
2 |
真空获得系统 |
1奖/span> |
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3 |
真空测量装置 |
1奖/span> |