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产品详情
GSL-CKJS-450-B1磁控溅射
产品简今/div>

产品简介:高真穹/span>溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优炸/span>,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备、/span>

产品型号

GSL-CKJS-450-B1磁控溅射

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温?/span>25ℂ/span>15ℂ/span>,湿?5%Rh10%Rh下使用、/span>

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电9/span>AC380V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注?span>/氩气(纯?9.99%以上),需自备实验气体气瓶(自?10mm双卡套接头)及减压阀

4?/span>场地9/span>设备尺寸35001600mm,承里/span>1000kg以上

5、通风装置:需?/span>

主要特点

1?/span>真空度高、/span>

2、可制备多种薄膜+/span>金属、半导体、绝缘体等,应用广泛、/span>

3、体积小,操作简便、/span>

4、清理安装便捷、/span>

5?/span>控制可逈/span>一体化触摸屏控刵/span>

技术参?/span>

1?/span>主溅射室尺寸9/span>?450355mm筒形真空宣/span>

2?/span>主溅射室真空?/span>9/span>510-5Pa

3?/span>永磁靵/span>3套,靶材尺寸2′/span>,各靶射频与直流溅射兼容(其?/span>1个靶可溅射铁磁材斘/span>),靶与样品距离90-110mm可调

4、三靶共溅,三个靶可共同折向样品中心,距?0-80mm可调

5、基片加热与水冷独立工作,加热炉可与水冷样品台可互换,加热工?*温度600?#177;1ℂ/span>

6?/span>样品尺寸?#966;1′/span>

7?/span>样品台可连续回转,转逞/span>5-15?刅/span>

8?/span>基片可加-200V负偏厊/span>

9?/span>公转6工位样品台,可一次性安裄/span>6牆/span>1′/span>基片,拆下水冷加热样品台可换?工位样品台,其中5个工位为自然冷却工位?个加热工位,加热工位温度600?#177;1ℂ/span>

产品规格

整机尺寸9/span>1500900mm2000mm:/span>

标准配件

1

电源控制系统

1奖/span>

2

真空获得系统

1奖/span>

3

真空测量装置

1奖/span>

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