产品型号

GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温�?5�?#177;15℃，湿度55%Rh��10%Rh下使用、�/span>

1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小�?5℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高�?2 l/min＇�/span>加注纯净水或者去离子水）：�/span>

2、电：AC380V 50Hz＋�/span>功率大于10KW，波动范围：小于��6＄�/span>＋�/span>必须有良好接�?/span>（对地电阻小�?��）；

3、气：设备腔室内需充注�?氩气（纯�?9.99%以上），需自备�?氩气气瓶（自�?10mm双卡套接头）及减压阀

4�?/span>场地面积９�/span>设备尺寸2000mm��2000mm，承里�/span>1000kg以上

5、通风装置：需�?/span>（外排废气管道）：�/span>

主要特点

1�?/span>由于电子束定位准�?/span>能量很高＋�/span>可蒸发难熔金属或化合物，蒸发速率快；

2、体积小，操作简便可以非常容易的放置材料和清理；

3�?/span>蒸发材料放置在水冷铜坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；

4、由于蒸发物面积小，因而热辐射损失小，热效率高：�/span>

技术参�?/span>

1、极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)：�/span>

2、系统真空检漏漏率：�?.0x10-7Pa.l/S：�/span>

3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达�?/span>6.6x10-4Pa：�/span>

基片参数

1�?/span>基片尺寸：可放置��4″基牆�/span>（带手动挡板（�/span>：�/span>

2、基片加�?*温度 800�?#177;1℃，由热电偶闭环反馈控制：�/span>

3、基片可连续回转，转�?�?0�?分；

4、基片与蒸发溏�/span>之间距离300｝�/span>350mm可调：�/span>

电子束蒸发源参数

1、E型电子枪，阳极电�?KV�?KV：�/span>

2�?/span>电子枪坩埚：水冷铜坩埚，四穴设计，每个熔炻�/span>11ml：�/span>

3�?/span>电子束功玆�/span>0-6KW可调：�/span>

真空腔体

1�?/span>U型真空室尺寸��500X600mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；

2�?/span>真空腔体剌�/span>开�?/span>铰链结构，方便取、放样品：�/span>

3�?/span>前开门设有两个观察窗接口，可以观察电子枪和基片；

4�?/span>设备预留膜厚仪接口，可选配膜厚�?/span>：�/span>

5�?/span>高真空分子泵机组，闸板阀隔断（也可使用高真空挡板阀）；

产品规格

整机尺寸９�/span>1800mm��1200mm��2000mm：�/span>

标准配件

1

电源控制系统

1奖�/span>

2

真空获得机组

1奖�/span>

3

真空测量

1奖�/span>

4

电子�?/span>

1奖�/span>