产品型号

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

主要特点

1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作、�/span>

2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布、�/span>

3、磁体表面涂有保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命、�/span>

4、标准的HN型接头，可与DC咋�/span>RF电源相匹配、�/span>

5、安装采用标准真空接头，便于操作、�/span>

6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度、�/span>

7、配有铜靵�/span>1块、�/span>

技术参�?/span>

1�?/span>溅射头直径：?46.3mm

2�?/span>所用靶材：直径1"��0.02"�?5.4mm），**厚度1/8"�?mm（�/span>

3�?/span>磁环：NdFeB稀土永磁体

4、柄杆直径：外径3/4"

5、电路接头：标准HN型接头，可与DC咋�/span>RF电源相匹酌�/span>

6、所需功率９�/span>DC**250W＋�/span>RF**100W

7、阴极溅射电流：**3A

8、阴极溅射电压：200V-1000V

9、工作压力范围：1mtorr-1torr

10、溅射厚度均匀性：采用磁控溅射在氧化非晶硅片上沉积一�?/span>20nm的薄膜，直流功率150W＋�/span>真空环境

10mtorr＋�/span>1"铜靶，与基片距离75mm

11、水冷却：水管接头为外径0.25"快插头，所需水流�?/2GPM，进水温�?/span><20ℂ�/span>

12、高真空快速接头：为赠送品，数野�/span>1个，内径�?.75"，可将溅射头安装在真空腔体上＋�/span>真空腔体上的安装

　　　　　　　　　 孔直径为1"，真空腔体的壁厚不得大于1"

13、倾斜装置：溅射头相对于柄�?*可倾斜��45?，设有刻度线，可观察到靶头倾斜的角�?/span>

产品规格

尺寸�?4"＇�/span>355.6mm）；重量９�/span>1.36kg

可选配仵�/span>

1、循环水冷机，流量为16L/min，水箱容积为6L、�/span>

2�?/span>100W小型手动匹配型射频电溏�/span>RF-100-LD，可自行搭建溅射镀膜仪、�/span>

主要应用

在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，应用如下：

薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件�?/span>MEMS、生物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒膜、记忆合金、组合薄膜沉积、光学薄膛�/span>