生长纳米纾/span>CVD炈/span>OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片**3′/span>、/span>在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进?/span>CVD炉进行纳米线的生镾/span>。其可滑动的样品架使操作更为简協/span>、/span>
产品型号 |
生长纳米纾span>CVD炈span>OTF-1200X-4-NW |
| 安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温?5?#177;15℃，湿度55%Rh10%Rh下使用、/span> 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC380V 50Hz?3A空气开关），必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯?9.99%以上），需自备氩气气瓶（自?span>?6mm双卡套接头） 4、工作台：尺?500mm600mm700mm，承?00kg以上 5、通风装置：需?/span> |
主要特点 |
1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉、/p> 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命、/p> 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放、/p> 4、左侧的小加热器可对输入CVD炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外徃span>?30mm?/span>镾/span>150mm＋/span>**工作温度600ℂ/span>、/span> 5、左边法兰（在加热器不span>CVD炉之间）装有4?span>1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体這/span>道的作用、/span> 6?span>PID自整定数字控制器，可以设?span>30段升降温程序、/p> 7、选配相关软件可用计算机进行控温、/p> 8、已通过CE认证、/p> |
技术参?/span> |
1、额定电压：单相AC220V50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外徃span>?110mm，内徃span>?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炈span>400mm，加热器150mm＋/p> 5、工作温度：CVD?*1100℃（<2h），连续工作200?1000℃，**升降温速率10ℂspan>/min：span>加热器连续工佛/span>0-500℃，**升降温速率10ℂ/span>/min 6、控温精度：1ℂ/p> 7、热电偶９span>K垊/p> 8、右法兰：一?span>3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配 冷机，避兌span>O型圈融化（/p> 9、左法兰：有2个独竊span>1/4′/span>口，可单独将任何气体通入炉内，一?span>1/4"口将预热气体通入CVD炉，一?span>1/4′/span>口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内皃span>T型结构与加热气体汇合 |
产品规格 |
尺寸９span>1200mm450mm510mm；重量：100kg |
可选配仵/span> |
1?span>冷水朹/span> 2?span>控温软件 |
