产品简介：ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构，半导体周期性纳米结构，新材料，新物理现象研究，平板显示，光伏太阳能，功能性涂料，生物和化学工程，块状材料分析以及各种各向同?异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一?二维纳米光栅材料结构的表征分析、/span>
双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩?6个元素；配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块，软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷；丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力、/span>
产品型号 |
ME-L全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪 |
||
主要特点 |
1、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 2、可实现穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加精凅/span> 3、基于双旋转补偿器配置，可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素，相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信?/span> 4、颐?*技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谰/span> 5、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材斘/span> 6、集成对纳米光栅的分析，可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信?/span> |
||
技术参?/span> |
1、应用：科研?企业?/span> 2、基本功能：Psi/Delta、R/T、穆勒矩阵等光谱 3、分析光谱：380-1000nm(支持扩展?10-1650nm) 4、单次测量时间：1-8s 5、重复性测量精度：0.005nm 6?*精度(直通测量空? 椭偏参数:=450.05▲00.1 穆勒矩阵:对角元素m=10.005；非对角元素m=00.005 7、光斑大小：大光?-3mm；微光斑200m |
||
可选配?/span> |
波段选择 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度选择 自动:45-90 手动:55-75(5步进)?0 固定:65 其他选择 Mapping选择:100100mm(供参考，按需定制) 温控?室温一600C(供参考，按需定制) |
||
可选配仵/span> |
1 |
温控?/span> |
|
2 |
Mapping扩展模块 |
||
3 |
真空泴/span> |
||
4 |
透射吸附组件 |
||
