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ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作、/span>特点９/span>
ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备、/span>
型号 |
ETD-2000c |
仪器尺寸 |
400mm300mm400mm（LWH（/span> |
靶（上部电极（/span> |
50mm0.1mm（DH（/span> |
真空样品宣/span> |
硼硅酸盐玻璃 160mm110mm（DH（/span> |
样品?/span> |
50mm (D) |
操作真空 |
410-1mbar?10-2mbar |
工作电压 |
0-1600V (DC)可调 |
溅射电流 |
0-50mA |
溅射定时 |
1-9999S |
蒸碳电流 |
0-10A(AC) |
真空泴/span> |
2升机械旋转泵 |
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