ETD-3000型离子溅射仪是依据二�?/span>(DC)直流溅射原理设计而成的，*简单、可靠、经济的镀膜设备、�/span>

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜＇�span>SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作、�/span>

1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；

2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获�?*镀膜效果；

3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；

4.陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用：�/span>

5.根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净、�/span>

配置参数如下９�/span>

2主机规格９�span>L360mm*W300mm*H380mm

2靶（上部电极）：金：直径９�span>50mm，厚度：0.1mm

2真空样品室： 直径９�span>160mm，高９�/span>120mm

2溅射面积� ��50mm

2真空指示表： **真空度：�4X10-2 mbar

2离子电流表： **电流９�span>100mA

2定时器： *长时间：3600S

2微型真空气阀� 可连�?#966;3mm软管

2可通入气体� 多种

2**电压�-3000 DCV

2机械泵：2L/S