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【SuPro】ISC150 T高真空离子溅射仪
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ISC150离子溅射仪升级版本,采用无油隔膜?分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂,EDS和EBSD喷碳,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途、/span>

本离子溅射仪主要的特点就是‛strong>无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用、/span>

另外附加原位等离子清洗选配模块,针对SEM样品清除碳氢污染(有机物积碳污染),实现样品表面活化和亲水化处理、/span>

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