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离子溅射仪MC1000
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日本
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采用磁控型电极，**限度地减轻对样品的损坏、/p>

特色

  • 采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件

  • 可处理较厚或较大的样?选配?

  • 记忆功能可存储常用加工条仵/p>

规格

项目 说明
放电 类型 磁控二极管放电型(电场垂直于磁?
电极组成 反向平行?嵌入磁铁)
电压 ** 0.4 kV DC(直流可变)
电流 ** 40 mA DC
喷镀速率*1(**)

[条件]

压力? Pa

放电电流?0 mA

标靶与样品表面之间的距离?0 mm

 Pt ?选配? 15 nm/min
Pt-Pd ?选配? 20 nm/min
Au ?选配? 35 nm/min
Au-Pd ?选配? 25 nm/min
样品尺寸 **直径 60 mm
**高度 20 mm
机械泴/th> 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2 Pt Pt-Pd (8:2) Au Au-Pd (6:4)
电源要求 单相 100 V AC (10%) 15 A (50/60 Hz) 3-针插头线?3 m)
尺寸 宽度 450 mm
长度 391 mm
高度 390 mm
重量 主机：约 25 kg

机械泵： 28 kg
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