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1200低真空CVD系统
1200低真空CVD系统的图?/></a></div></div></div>         <div class=
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上海
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简今/span>

1200℃低真空CVD系统是由滑动式管式实验电炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温;配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。是为石墨烯生长、研发的专用炉,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验、/span>

主要技术参?/span>

炉体结构

整机采用SUS304不锈钢材质,流线型外观,断热式结构;

日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,保温性能好;

炉子底部装有一对滑轨,移动平稳:/span>

炉子可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却;

支撑两端安装油压缓冲器;

炉盖可开启,可以实时观察加热的物斘/span>

尺寸重量

1240*600*1340mm?70kg

电源

电压:AC220V 50/60Hz;功率:4KW

炉管

高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小:/span>

尺寸?#934;60/80/100*1200mm

法兰及支撐/span>

SUS304不锈钢快速法兰,通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空;

一个卡箍就能完成法兰的连接,放、取物料方便快捷:/span>

可调节的法兰支撑,平衡炉管的受力支撑:/span>

包含进气、出气、真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合、/span>

加热系统

加热元件采用优质合金丝,表面负荷高、经久耐用 加热区长度:300mm;恒温区长度?50mm 工作温度:≤1150℃; **温度?200℃;

升温速率:推荐≤10?min?快升温速度30?min

温控系统

日本富士仪表?4段控温程序,可分步、分段; 测温元件:N型热电偶 控温精度?#177;1ℂ/span>

混气系统

三路质量流量计:数字显示、气体流量自动控刵/span>

内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀

管路采用不锈钢管,接口为6卡套

每路气体进气管路配有不锈钢针阀

通过控制面板上的旋钮来调节气体流野/span>

流量规格?~1SLM 流量精度?#177;1.5%

真空系统

采用双极旋片真空泵,真空度可?0Pa

可选配仵/span>

高真空系统,各种刚玉、石英坩埚,石英管,计算机控制软仵/span>

保修朞/span>

整机一年保修(相关耗材除外(/span>

可根据客户要求定制!

特色与优劾/span>

1.滑动式炉体结构实现快速升降温:/span>

2.开启式炉盖设置,降低沉积温度、加快沉积速度:/span>

3.日本富士温控仪表?4段控温程序,可分布,分段,三路质量流量计,数字显示精确控制气体流量;

4.双极旋片真空?分子泵,实现对真空度的不同要求,极限真空可达4.0*10-4Pa、/span>

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