基本优缺点对比表９/span>
搪瓷反应釜不适于下列介质或物料的反应、聚合、储存、换热等化工过程９/span>
1）任何浓度和温度的氢氟酸及含有氟离子的介质或物料、/span>
2）浓度大?0％，温度大于180°C度磷酸介质或物料、/span>
3）PH值大?2且温度高?0°C的碱性介质或物料、/span>
4）酸碱物料交替进行的反应过程、/span>
UGL耐化学性（搪玻璃不耐受介质）：
Reagents（试剂） |
Concentration（浓度） |
Temperature（°C?温度) |
Suggest(推荐与否) |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
15 |
23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
30 |
23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
30 |
121 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
60 |
23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
50 |
23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
50 |
121 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
60 |
121 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
70 |
23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Sodium Hydroxide氢氧化钠 |
70 |
66 |
Recommand to use（推荐使用） |
Potassium Hydroxi De氢氧化钾 |
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23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Potassium Hydroxi De氢氧化钾 |
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66 |
Recommand to use（推荐使用） |
Barium Hydroxide 氢氧化钡 |
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23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Calcium Hydroxide 氢氧化钙 |
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23 |
Recommand to use（推荐使用） |
Magnesium Hydroxide 氢氧化镁 |
|
23 |
Recommand to use（推荐使用） |
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搪玻璂/span> |
UGL |
化学防腐 |
与一些无机化学品反应，热碱溶液、热磷酸、氢氟酸、氟化物、与盐酸稍微反应、/span> |
能耐受强酸、强碱腐蚀（PH 1-14），油漆 氯化物、硝酸、硫酸等小分子介质 |
韧?/span> |
脆性材料，易爆瓷。破裂可能导致无法预估的停机时间、/span> |
韧性材料，涂层不宜破裂、/span> |
热膨胀 |
热变化会导致搪玻璃衬里产生应力开裂，必须一直保持ΔT<80°C。这是又去玻璃会在金属的收索膨胀运动下破裂（并且在贮存和运输过程中也应注意）、/span> |
热膨胀系数是所有材料中遇金属最接近的，再加上其韧性，能够承受急冷急热的变化（ΔT>80°C)、/span> |
纯度（离子析出） |
可能会产生某些元素的析出，这些元素通常用来改善玻璃的脆性和易裂性，可能产生产品污染问题、/span> |
极低的金属和有机物析出，使UGL适用于半导体和生物科技工业的高纯系统中、/span> |
表面光滑?/span> |
表面会附着生物膜、/span> |
表面光滑，不宜附着生物膜、/span> |
清洁难度 |
时间久不宜清理、/span> |
有自清洁功能，积灰易清理、/span> |
UGL与搪玻璃对比优势总结９/span>
1.不会因机械碰撞、热应力、析氢腐蚀等因素而损坏，避免了停机停工的风险、/span>
2.适用反应介质广泛，pH1-14，尤其可以用 磷酸、酸、碱性介质或酸碱交替反应等的工况、/span>
3.材料纯度高，可适用于半导体和生物科技工业的高纯系统中、/span>
4.施工温度 ，能量成本底、/span>
5.表面光滑，不易附着生物膜，且有自清洁功能，积灰易清理、/span>
