一?/span>概述
此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器，辅助固体源蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。左端配有法兰支撑架可将预热器和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好：/span>真空机组装有真空粉尘过滤?/span>以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可?/span>1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料、/span>
二?/span>设备组成
HTF-1100蒸发器，HTF-1200D双温区管式炉(蒸发器与高温反应区采用一体式)、/span>
三?/span>主要技术参?/span>
蒸发?/span>
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型号：HTF-1100 工作温度：室?1000ℂ/span> **温度?050ℂ/span> *快升温速率?0?min 推荐升温速率?0?min 控温方式：智能化30段可编程控制 工作电压：AC220 V 额定功率?000W 控温精度：?ℂ/span> 加热元件：电阻丝 加热区长度（mm）：150mm |
双温区硫化炉 |
型号：HTF-1200D 技术参数： 额定功率(KW):3 额定电压(V):AC220v 50/60 Hz **温度(?:1200? hour（/span> 持续工作温度(℃）?100 升温速率（℃/min）：?0 炉管尺寸（mm）： 高纯石英管?0×1500mm 加热区长度（mm）：150/300mm 恒温区长度（mm（100/120mm 控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能 控温精度(?:±1 加热元件:电阻东/span> |
配件 |
配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，防腐型数显真空计，三路混气系统（可选） |
400-810-0069
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