技术参数：

技术指标：

坩埚大小:1cc�?cc，（其它体积定制�

可实现的金属层厚�? > 500 nm per load at distance 250 mm

通常�?*）沉积速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm

加热系统:带坩埚的陶瓷容器

选项：标准金属容器（可替换）

温度范围:300��C ~ 1700��C

电源要求:电压 < 10 V (typ. 9 V)；电� < 200 A (typ. 110 A)；功� up to 2 kW

冷却氳�approx. 15 l /min

选项�

? 陶瓷容器；金属容�

? 可弯曲的金属管用于冷却系统，免工具操�

? 与有机物升华器的联合装配

主要特点９�/strong>

微型金属升华�?/strong>专为实验室研究或微小规模的制备而设计，可以装配高真空或超高真空系统，主要用于沉积制备金属层�

特殊设计的升华器核心构成为传导效率很高的陶瓷容器，同时包括一个嵌入的坩埚。两种材料均能够承受金属的溶解过程。坩埚的材料可以所所升华金属的不同而选择、�/p>