实验室真空高温炉

设备简今�/strong>

美国Thermal Technology高温炉适用亍�strong>各种实验室应用及小规模生�?/strong>。操作简单，性能稳定�?*可定制温度达3000℃、�/p>

设备特点９�/strong>

* 丰富加热原件可供选择

***温度可达3000°C

*可实现超高真穹�/p>

*可实现Ar/N₂/O₂/H₂等多种气氛环墂�/p>

应用领域:

美国Thermal Technology高温炈�/span>可用于粉末冶金、金属化合物、陶瓷、半导体、物理、化学、材料、光学等诸多领域的样品合成及热处理工艺、�/p>

石墨高温炈�/strong>

金属高温炈�/strong>