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Nicomp 380激光粒度电位检测仪

基本概述９�/span>

Nicomp 380 DLS是纳米粒径分析仪器，采用现在先进的动态光散射原理，利用专利的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供最好的分析技术� 测试范围�?.3 nm � 10μm、�/span>

产品介绍９�/span>

Nicomp 380 DLS采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范図�/span>0.3 nm- 10μm。粒度分析复合采�?/span>Gaussian单峰算法和拥有专利技术的Nicomp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的、�/span>

激光粒度电位检测仪工作原理９�/span>

动态光散射�?DLS)，有时称为准弹性光散射法（QELS），是一种成熟的非侵入技术，可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布，使用最新技术，粒度可小�?nm、�/span>动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征� 悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动，造成散射光光强的波动� 分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度，再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒�?/span>、�img alt="" src="http://img58.chem17.com/9/20140728/635421576434788785518.png" data-bd-imgshare-binded="1" style="margin: 0px; padding: 0px; border: 0px currentcolor; outline: 0px; vertical-align: middle; width: 671px; height: 311px;"/>

激光粒度电位检测仪仪器参数９�/span>

粒径测量范围	粒度分析９�/span>0.3 nm - 10μm
分析方法	粒度分析：动态光散射＋�/span>Gaussian单峰算法咋�/span>NiComp无约束自由拟合多峰算泔�/span>
pH值范図�/span>	2 - 12
温度范围	0ℂ�/span>- 90ℂ�/span>
检测角度（可选）	粒度分析９�/span>90°戕�/span>多角度（10°- 175°，可选配（�/span>
高浓度样品背散射	175°背散尃�/span>
可用溶剂	水和绝大多数有机溶剂
样品江�/span>	4 mL（标准，石英玻璃或有机玻璃）：�/span> 500μL（高透光率微量样品池（�/span>
分析软件	Windows运行环境，符吇�/span>21 CFR Part 11规范分析软件
电压	220 � 240 VAC＋�/span>50Hz戕�/span>100 � 120 VAC＋�/span>60Hz
外形尺寸	56 cm * 41 cm * 24cm
重量	�?/span>26kg（与配置有关（�/span>

激光粒度电位检测仪配件９�/span>

大功玆�/span>激光二极管	PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使�?/span>大功玆�/span>激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光、�/span> 15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波长为635nm皃�/span>红色二极管、�/span> 20mW 50 mW� 100mW波长丹�/span>514.4nm皃�/span>绿色二极管、�/span>
雪崩光电二极管检测器＇�/span>APDDetector（�/span>	提供比普這�/span>光电倍增箠�/span>(PMT)�?0倌�/span>的灵敏度、�/span>
Zeta电位模块	Zeta电位是确定交曾�/span>系统稳定性的重要参数，决定粒孏�/span>之间静电排斥力大小，从未影响粒子闳�/span>的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射（ELS（�/span>技�?/span>，通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度，即电泳迁移率、推算出Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位测定的同机操佛�/span>、�/span>
自动稀释系统模坖�/span>	尅�/span>初始浓度较高的样本自�?/span>稀釉�/span>至可检测的皃�/span>浓度，可稀释初始固含量丹�/span>50%皃�/span>原始样品，本模块收专利保护，其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差＋�/span>此技�?/span>被用于批量进样和在线检测的过程中、�/span>
多角�?/span>检测系绞�/span>模块	提供多角度的检浊�/span>能力。使�?/span>高精�?/span>皃�/span>步进电机咋�/span>针孔光纤技�?/span>可对散射先�/span>皃�/span>�?/span>攵�/span>角度进行调整，可为微粑�/span>粒径分布提供�?/span>高分辨率皃�/span>多角度检测。对高浓�?/span>样品＇�/span>�?0%（�/span>以及大粒子多分散系的粒径提供了提侚�/span>15�?75�?/span>之间不同角度上散射光的采集和检测、�/span>
自动进样�?/span>	批量自动进样器能实现最夙�/span>76个连�?/span>样本的分枏�/span>耋�/span>无需操作人员皃�/span>干预。因正�/span>它是一个非常好的质量控刵�/span>工具，能增大样品的处理量、�/span>大大节省亅�/span>宝贵的时间、�/span>
自动滴定模块	样品的浓�?/span>及PH倻�/span>�?/span>Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH倻�/span>，自�?/span>检测Zeta电位值。免陣�/span>外界皃�/span>干扰和数据上皃�/span>误差，精�?/span>分析出样�?/span>Zeta电位的趋势、�/span>

激光粒度电位检测仪应用领域９�/span>

适用于检浊�span style="margin: 0px; padding: 0px; border: 0px; outline: 0px; font-family: calibri;">悬浮在水相和有机相的颗粒物、�/span>

1（�/span>磨料

磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性、�/span>

2（�/span>化学机械抛光(CMP)

化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨�?通常是氧化铝、二氧化硅或氧化�?两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行、�/span>

3（�/span>陶瓷

陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量、�/span>

4（�/span>粘土

粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小�?3μm、�/span>

5（�/span>涂料

涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能、�/span>

6（�/span>污染监测

粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求、�/span>

7（�/span>化妆�?/span>

无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳�?一种乳�?的粒度小�?00纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用、�/span>

8（�/span>乳剂

乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期、�/span>

9（�/span>食品

食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品、�/span>

10（�/span>液体工作介质/沸�/span>

液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命、�/span>