纳米二氧化硅抛光涱�br /> 13305******, 13305631650，Qq:1830343958


我公司系列二氧化硅抛光液产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度二氧化硅抛光液，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光＋�br />
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛先�br />
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工、�br />
技术指标：

型号	外观	粒径	含量	溶剂	应用
VK-SP15W	白色乳液	10nm	20%	氳�/td>	精密抛光
VK-SP30W	白色乳液	30nm	20%	氳�/td>	精密抛光
VK-SP60W	白色乳液	60nm	20%	氳�/td>	精密抛光
VK-Sp15E	白色乳液	10nm	20%	乙二醆�/td>	精密抛光
VK-SP30E	白色乳液	30nm	20%	乙二醆�/td>	精密抛光
VK-SP60E	白色乳液	60nm	20%	乙二醆�/td>	精密抛光

包装�?5kg/桵�/div>