U-SMPS 2050 X / 2100 X / 2200 X

通用扫描迁移率粒度仪，集成X射线电离，适用�? � 1200 nm的各种应�?/p>

‡�/span> 粒径分布�? nm�?.2 µm
‡�/span> 连续和快速扫描的测量原理
‡�/span> 高分辨率，多�?28个尺寸类�?衰减
‡�/span> 适用于高�?08颗粒/立方厘米的浓�?br/>‡�/span> 可以连接其他制造商的各类DMA和纳米粒子计数器
‡�/span> 图形显示测量倻�br/>‡�/span> 直观操作，使�?英寸触摸屏和GUI
‡�/span> 集成数据记录�?br/>‡�/span> 支持多种接口和远程访�?br/>‡�/span> 低维抣�br/>‡�/span> 功能可靠
‡�/span> 减少您的运营费用 * 请联系Palas®了解更多信息、�/p>

�?：U-SMPS 2050 X / 2100 X / 2200 XPalas®通用扫描迁移率粒度仪（U-SMPS）有两种版本、�strong>长分类柱型号�?050 X / 2100 X / 2200 X型号）能够可靠地测定8�?,200 nm的粒径分布。已经集成软X射线源作为中和器（见�?）。代替放射性中和（例如使用Kr-85）的优点是在运输过程中无需遵循以下要求、�/p>

Palas®U-SMPS系统包括一�?strong>分类�?/strong>[在ISO 15900中定义为差分电迁移率分类器（DEMC），也称为差分迁移率分析器（DMA）]，根据气溶胶颗粒的电迁移率选择并传递给出口、�/p>

然后＋�strong>冷凝颗粒计数�?/strong>（例如Palas®UF-CPC）对这些颗粒进行计数。三种可用的UF-CPC模型可实现各种浓度范围内的优异单颗粒计数� Wiedensohler教授（德国IfT莱比锡）开发了Palas®的算法，用于对测量数据进行反演以产生U-SMPS粒度分布、�/p>

U-SMPS使用触摸屏上的图形用户界面进行操作。单个粒子分布扫描可以在短短30秒内执行，或者每十个通道多达执行64个尺寸通道，在此期间，DEMC分类器中的电压连续变化，从而导致每个尺寸通道的计数统计更高。集成的数据记录器允许在设备上以线性和对数显示测量值。随附的评估软件提供各种数据评估（广泛的统计和平均）和导出功能、�/p>

U-SMPS通常作为独立设备运行，也可以使用各种接口（USB，LAN，WLAN，RS-232 / 485）连接到计算机或网络� Palas®U-SMPS支持其他制造商的各类DMA、CPC和气溶胶静电计、�/p>

U-SMPS的准确尺寸确定和可靠性能尤其重要，特别是对于校准。所有组件都通过严格的质量保证测试，并在内部组装、�/strong>

�?展示U-SMPS的工作原理：

气溶胶在进入分类器（DEMC列）之前经过调节。可选的干燥器（例如硅胶，Nafion）可以去除颗粒中的水分。使用双极中和器（XRC 049）可以确保测定的气溶胶电荷分布。为了去除大于分类器尺寸范围的颗粒，需要在DEMC的入口处使用撞击器、�/p>

�?：通用扫描迁移率粒度仪（U-SMPS）的工作原理

然后，气溶胶通过入口导入DEMC色谱柱。沿外部电极的气溶胶流在此与护套气流仔细合并。重要的是在此处避免任何湍流，以确保层流。电极的表面在光滑度和公差方面必须具有极高的质量、�/p>

鞘空气是干燥、无颗粒的载气（通常是空气），其体积大于连续在闭环中循环的气溶胶体积。鞘空气与样品空气的体积比定义传递函数，从而定义尺寸分类器的分辨率、�/p>

通过施加电压在内和外电极之间产生径向对称的电场。内电极在末端带有小缝隙，带正电。通过平衡每个粒子上的电场力及其在电场中的空气动力学阻力，带负电的粒子被转移到正电极。根据它们的电迁移率，一些颗粒会穿过狭缝并离开DEMC、�/p>

在工作中，电压并因此电场连续变化。结果是，迁移率变化的粒子离开DEMC，并由纳米粒子计数器（例如缩合粒子计数器）（例如Palas®UF-CPC）连续测量、�/p>

在实际条件下，经过测试的软件为组合数据（电压，粒子数等）并获得粒度分布提供特殊的处理功能，如�?所示、�/p>

�?：Palas®DNP 3000颗粒发生器产生的气溶胶的粒径分布

用户界面和软仵�/strong>

基于持续的客户反馈，我们已设计良好的用户界面和软件，以实现直观的操作、实时控制，并可以显示测量数据和参数、�/p>

此外，软件还通过集成的数据记录器、完善的导出功能和网络支持为数据管理提供支持。可以使用许多可用的显示选项和测量数据评估功能、�/p>

可用系统

下面的文档介绍DEMC与Palas®提供的计数器的各种组合� 其他制造商提供的大多数DMA、CPC和气溶胶静电计都可以用作U-SMPS系统的组件、�/p>