凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化、�/span>

PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势、�/span>

• 高效的刻蚀速率

• 低购置成�?/span>

• 专为腐蚀性的化学成分而设讠�/span>

• 出色的刻蚀均匀�?/span>

• 适用于蓝宝石的静电压盘技�?/span>

• 蓝宝石和硅上的GaN

• 高导通抽气系绞�/span>

• 可与其它PlasmaPro系统集成

设备特点９�/span>

• 主动冷却电极 - 在刻蚀过程中保持样品温�?/span>

• 高功率ICP�?nbsp;- 产生高密度等离子佒�/span>

• 可靠的硬件且易于维护 - 可保持长时间正常运转

• 磁场垫环 - 增强离子的控制和均匀�?/span>

• 静电压盘技�?nbsp;- 适用于蓝宝石，以及蓝宝石和硅基的GaN

• 加热的腔室内�?nbsp;- 优化以减少腔壁沉�?/span>

• 先进的自动匹配单元（AMU�?nbsp;- 提供快速，高效和准确的匹配，确保工艺的高度准确重复�?/span>