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产品详情
膜厚量测仪 FE-300
膜厚量测仪 FE-300的图?/></a></div></div></div>         <div class=
参考报价:
面议
品牌9/dt>
大塚电子
关注度:
3548
样本9/dt>
暂无
型号9/dt>
FE-300
产地9/dt>
江苏
信息完整度:
典型用户9/dt>
暂无
索取资料及报件/a>
认证信息
高级会员 2平/div> 称: 大塚电子(苏州)有限公司
证:工商信息已核宝br /> 访问量:133673
产品简今/div>

特 镾/p>

薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析

高性能的低价光学薄膜量测仪

藉由**反射率光谱分析膜厙/p>

完整继承FE-3000高端机种90%的强大功胼/p>

无复杂设定,操作简单,短時間內即可上手

线?小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数(/p>

测量项目

  • **反射率测野/p>

  • 膜厚解析?0层)

  • 光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)

产品规格


FE-300V

FE-300UV

FE-300NIR?

对应膜厚

标准垊/p>

薄膜垊/p>

厚膜垊/p>

超厚膜型

样品尺寸

**8寸晶圆(厚度5mm(/p>

膜厚范围

100nm ~ 40μm

10nm ~ 20μm

3μm ~ 300μm

15μm ~ 1.5mm

波长范围

450nm ~ 780nm

300nm ~ 800nm

900nm ~ 1600nm

1470nm ~ 1600nm

膜厚精度

±0.2nm以內?

-

重复再现性(2σ(/p>

±0.1nm以內?

-

测量时间

0.1s ~ 10s以內

量测口径

约?mm

光源

鹵素?/p>

UV用D2?/p>

鹵素?/p>

鹵素?/p>

通讯界面

USB

尺寸重量

280(W) 570(D)?50(H)mm,约24kg

软体功能

标准功能

波峰波谷解析、FFT解析?适化法解析?小二乘法解析

选配功能

材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析

?请于本公公司联系联系我们
?对比VLSI标准样品?00nm SiO2/Si),范围值同保证书所记载
?测量VLSI标准样品?00nm SiO2/Si)同一点位时之重复再现性。(扩充系数2.1(/p>

应用范围

半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)
光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等(/p>

测量范例

  • PET基板上的DLC膛/p>

  • item_0005FE-300_sub001.gif

  • Si基板上的SiNx

    item_0005FE-300_sub002.gif



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