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北京欧波同光学技术有限公号/p>
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新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 产品系列业界**的高性能成像和分析性能。它经过精心设计，可满足材料科学研究人员和工程师?广泛 FIB-SEM 使用需求，即使?*挑战性的样品、/strong>
Helios 5 DualBeam 重新定义了高分辨率成像的标准?*的材料对比度?快?简单?精确的高质量样品制备，用 S/TEM 成像和原子探针断层扫描（APT）以?*质量的亚表面 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久经考验的性能基础上，新一代的 Helios 5 DualBeam 进行了改进优化，所有这些都旨在确保系统处于手动或自动工作流程的**运行状态、/strong>
半导体行业技术参数：
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| Helios 5 CX | Helios 5 HP | Helios 5 UX | Helios 5 HX | Helios 5 FX | ||
| 样品制备?nbsp;XHR 扫描电镜成像 | *终样品制?nbsp;(TEM薄片，APT) | STEM 亚纳米成像与样品制备 | ||||
| SEM | 着陆电厊/td> | 20 eV~30 keV | 20 eV~30 keV | |||
分辨玆/p> |
0.6 nm@15 keV | 0.6 nm@2 keV | ||||
| 1.0 nm@1 keV | 0.7 nm@1 keV | |||||
| 1.0 nm@500 eV | ||||||
| STEM | 分辨率@30 keV | 0.7 nm | 0.6 nm | 0.3 nm | ||
| FIB制备过程 | **材料去除束流 | 65 nA | 100 nA | 65 nA | ||
| *?*抛光电压 | 2 kV | 500 V | ||||
| TEM样品制备 | 样品厚度 | 50 nm | 15 nm | 7 nm | ||
| 自动匕/td> | ?/td> | ?/td> | ?/td> | |||
| 样品处理 | 行程 | 110×110 ×65 mm |
110×110 ×65 mm |
150×150 ×10 mm |
100×100 ×20 mm |
100×100×20mm+5轴（S）TEM Compustage |
| 快速进样器 | 手动 | 自动 | 手动 | 自动 | 自动+自动插入/提取STEM 样品杅/td> | |
材料科学行业技术参数：
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| Helios 5 CX | Helios 5 UX | ||
| 离子光学 | 具有**的大束流性能的Tomahawk HT 离子镜筒 | 具有**的大束流和低电压性能的Phoenix 离子镜筒 | |
| 离子束电流范図/td> | 1 pA ?nbsp;100 nA | 1 pA ?nbsp;65 nA | |
| 加速电?/td> | 500 V ?nbsp;30 kV | 500 V ?nbsp;30 kV | |
| **水平视场宽度 | 在束重合点处?.9 mm | 在束重合处点?.7 mm | |
| 离子源寿呼/td> | 1,000 小时 | 1,000 小时 | |
| 两级差分抽吸 | 两级差分抽吸 | ||
| 飞行时间校准 | 飞行时间校准 | ||
| 15孔光阐/td> | 15孔光阐/td> | ||
| 电子光学 | Elstar超高分辨率场发射镜筒 | Elstar超高分辨率场发射镜筒 | |
| 磁浸没物镛/td> | 磁浸没物镛/td> | ||
| 高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电?/td> | 高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电?/td> | ||
| 电子束分辨率 | **工作距离上/td> | 0.6 nm @ 30 kV STEM | 0.6 nm @ 30 kV STEM |
| 0.6 nm @ 15 kV | 0.7 nm @ 1 kV | ||
| 1.0 nm @ 1 kV | 1.0 nm @ 500 V (ICD) | ||
| 0.9 nm @ 1 kV 减速模? | |||
| 在束流重合点 | 0.6 nm @ 15 kV | 0.6 nm @ 15 kV | |
| 1.5 nm @ 1 kV 减速模? ?nbsp;DBS* | 1.2 nm @ 1 kV | ||
| 电子束参?/td> | 电子束流范围 | 0.8 pA ~ 176 nA | 0.8 pA ~ 100 nA |
| 加速电压范図/td> | 200 V ~ 30 kV | 350 V ~ 30 kV | |
| 着陆电厊/td> | 20 eV ~ 30 keV | 20 eV ~ 30 keV | |
| **水平视场宽度 | 2.3 mm @ 4 mm WD | 2.3 mm @ 4 mm WD | |
| 探测?/td> | Elstar 镜筒?nbsp;SE/BSE 探测?nbsp;(TLD-SE, TLD-BSE) | ||
| Elstar 镜筒?nbsp;SE/BSE 探测?nbsp;(ICD)* | |||
| Elstar 镜筒?nbsp;BSE 探测?nbsp;(MD)* | |||
| 样品室内 Everhart-Thornley SE 探测?nbsp;(ETD) | |||
| 红外相机 | |||
| 高性能离子转换和电子探测器 (SE)* | |||
| 样品室内 Nav-Cam 导航相机* | |||
| 可伸缩式低电压、高衬度、分割式固态背散射探测?nbsp;(DBS)* | |||
| 可伸缩STEM 3+ 探测? | |||
| 电子束流测量 | |||
| 样品台和样品 | 样品?/td> | 高度灵活的五轴电动样品台 | 压电陶瓷驱动 XYR 轴的高精度五轴电动工作台 |
| XY | 110 mm | 150 mm | |
| Z | 65 mm | 10 mm | |
| R | 360° (连续) | 360° (连续) | |
| 倾斜 | -15° ~ +90° | -10° ~ +60° | |
| **样品高度 | 与优中心点间?nbsp;85 mm | 与优中心点间?nbsp;55 mm | |
| **样品质量 | 样品台任意位?nbsp;500 g | 样品台任意位?nbsp;500 g | |
| 0° 倾斜?* 5 kg | |||
| **样品尺寸 | 直径 110 mm可沿样品台旋转时 | 直径 150 mm可沿样品台旋转时 | |
| 优中心旋转和倾斜 | 优中心旋转和倾斜 | ||
更易于使用：
Helios 5 对所有经验水平用户而言都是*容易使用 DualBeam 系统。操作人员培训可以从几个月缩短到几天，其系统设计可帮助所有操作人员在各种高级应用程序上实现一致、可重复的结果
提高了生产率９/strong>
Helios 5 AutoTEM 5 软件的先进自动化功能，增强的可靠性和稳定性允许无人值守甚至夜间操作，显著提高样品制备通量
改善时间和结果：
Helios 5 DualBeam 引入全新精细图像调节功能 FLASH （闪调）技术。借助 FLASH 技术，您只需在用户界面中进行简单的鼠标操作，系统即可“实时”进行消像散、透镜居中和图像聚焦。自动调整可以显著提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。平均而言，FLASH 技术可以使获得优化图像所需的时?多缩 10 倍、/span>
赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜的工作原理介绍？赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜的使用方法？赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜多少钱一台？赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜使用的注意事顸/li>赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜的说明书有吗＞/li>赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜的操作规程有吗？赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜的报价含票含运费吗？赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜有现货吗＞/li>赛默飞（原FEI）Helios 5 DualBeam FIB双束电镜包安装吗＞/li>相关产品
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企业名称
北京欧波同光学技术有限公号/span>企业类型
信用代码
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注册地址
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注册资本
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