www.188betkr.com 讯半导体用石英坩埚具有均一性、高纯度（高纯半导体合成石英坩埚内层要求8N以上纯度）的特点。与部分发达国家相比，我国起步较晚，部分生产工艺与国际领先企业相比存在一定差距。在产品稳定性、微气泡量控制方面，日本公司相关产品可把因温度产生的形变控制在小范围内（正负0.75mm），部分合成石英砂坩埚可实现内部零气泡，而国产坩埚暂时无法达到该标准。
随着全球半导体产业向中国转移，在国家政策的扶持下，我国半导体产业的建设力度持续加强，进而有力带动产业链上游石英坩埚需求的增长。未来随着半导体领域国产替代进程的推进，国产石英坩埚在半导体领域的市场占有率将得到进一步提升。
半导体级石英坩埚行业产业链上游的核心原材料主要为高纯度合成石英砂及高纯度天然石英砂。高纯度合成石英砂由硅醇盐制成，是高纯度石英玻璃制品的理想原材料，目前全球仅三菱化学等极个别企业可以规模化稳定提供。高纯度天然石英砂通常为符合美国矽比科公司IOTA-STD等级的石英砂，目前全球能够供应的公司较少，仅美国矽比科（前身为尤尼明公司）、挪威天阔石等。
综合研究表明，天然高纯石英原料的矿物学特征研究应当考虑SiO2含量，流体包裹体的数量、大小、化学成分、存在形式及分布状态，杂质元素的含量及赋存形式等性质，其中杂质元素的赋存状态对于高纯石英原料的质量影响至关重要。
石英中杂质的赋存状态可分为三类：孔隙矿物类杂质、气液包裹体类杂质、类质同象类杂质。孔隙矿物类杂质是与石英出现在同一空间上的矿物，不同地质条件下伴生矿物不尽相同，与之伴生的矿物大多是硅酸盐类造岩矿物，比如长石、云母、金红石、方解石、萤石以及磁铁矿和赤铁矿等含铁类矿物；包裹体和类质同象类杂质都是在石英成矿过程中由于地质作用产生的杂质，包裹体是包裹在石英矿内部的某些固体矿物或气液杂质，类质同象类杂质是其他金属或非金属离子取代石英晶格中的某些位点形成的杂质。其中气液包裹体和晶格内部类质同象杂质是制约高纯石英产品制备的关键性因素。
半导体级石英坩埚用高纯石英砂对气液包裹体、晶格杂质等要求极高，国产原料难以满足要求，长期依赖国外进口，随着国际形势的变化，国产替代已迫在眉睫。不同石英资源中，由于杂质赋存特征及含量不同，其提纯工艺具有显著差异。因此，武汉理工大学的李育彪教授认为，针对不同产地的石英原料开展杂质赋存特征分析，构建系统杂质分布体系，开发石英砂中微小包裹体及晶格杂质的精深系列提纯技术，是制备半导体坩埚用高纯石英砂的关键核心。
2025年4月23-24日，由www.188betkr.com 、中粉会展主办的“2025全国半导体行业用高纯石英材料产业发展大会”将在江苏南京召开，届时来自武汉理工大学的李育彪教授将做题为《半导体坩埚用高纯石英砂精深纯化技术》的报告。
李育彪，澳大利亚南澳大学博士，现任武汉理工大学教授、博导，湖北省“楚天英才计划”科技创新团队负责人、湖北省“楚天学者计划”、武汉理工大学“青年拔尖人才”，任关键非金属矿产资源绿色利用教育部重点实验室学科带头人、中国非金属矿行业关键矿物材料开发与应用重点实验室副主任。
李教授主要从事战略非金属矿纯化、矿山固废高值利用等方面的教学科研工作。主持国家重点研发计划课题1项、国家自然科学基金3项、湖北省重点研发计划1项、湖北省自然科学基金1项等50余项国家级、省部级及企事业单位委托科研项目。以第一/通讯作者发表SCI论文70余篇、中文核心期刊论文50余篇，授权国家发明专利18项，出版包括《高纯石英砂制备技术与原理》在内的学术专（编）著5本。科研成果获省部级科技奖励5项。
参考来源：中国半导体用石英材料市场研究分析报告（2024～2027），粉体大数据研究
（www.188betkr.com 编辑整理/平安）
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