www.188betkr.com 讯据江西瑞思博新材料有限公司官网消息，近日，瑞思博与南昌大学就CMP抛光液项目举行了隆重的合作签约仪式。
半导体晶圆片 CMP 抛光液是半导体制造过程中的关键材料之一，通过抛光液中化学试剂的化学腐蚀和机械磨削的双重耦合作用，在原子水平上去除表面缺陷，获得全局平坦化表面，因此，抛光液对于提高晶圆表面平整度和光洁度起着至关重要的作用。
化学机械抛光液各组分 来源：王东哲等，化学机械抛光液的研究现状
但是，尽管近年来我国在CMP抛光液国产化方面取得了显著进步，但与国际先进水平相比仍存在一定的差距，关键技术尚未完全突破，部分高端产品仍依赖进口。
瑞思博与南昌大学的合作，将充分发挥双方的优势，加强在技术研发、人才培养等方面的合作，推动 CMP 抛光液项目的发展，提高我国半导体材料的自主创新能力和市场竞争力，也为双方带来更多的发展机遇。
来源：江西瑞思博新材料有限公司官网
江西瑞思博新材料有限公司成立于1998年，是国内规模化、专业化生产高端环保工业清洗剂的国家高新技术企业。公司已通过ISO9001:2008质量管理体系认证、ISO14001:2004环境管理体系认证及ISO45001:2018职业健康安全管理体系认证，现有职工160多人，其中大专以上学历人员占比超过66%。公司生产基地坐落于江西宜春，占地面积135亩，同时在北京、上海、深圳、成都、西安等全国十几个重点城市设立了办事处及技术服务团队。
来源：江西瑞思博新材料有限公司官网
公司现有一批具有丰富实践经验的精细化工专家和数千平方米的精细化工重点实验基地，现已获得数十项国家发明专利。汇聚着先进的设备和优秀的人才，凭借雄厚的技术力量和完善的质量服务保障体系，依靠持续的科技创新和严格的科学管理，相继推出了工业精密清洗、轨道交通清洗、新能源维护保养、军品维护保养四大类清洗剂，广泛应用于汽车制造、五金加工、机械制造、轨道交通、军队、电力、钢铁等诸多清洗领域。
来源：江西瑞思博新材料有限公司官网
此次合作是产学研结合的一次有益尝试，将为双方带来更多的发展机遇。相信在双方的共同努力下，半导体晶圆片 CMP 抛光液项目将取得丰硕的成果，为我国半导体产业的发展做出积极的贡献。
参考来源：
[1] 半导体封测、前瞻产业研究院、江西瑞思博新材料有限公司官网
[2] 王东哲等，化学机械抛光液的研究现状
[3] 严嘉胜等，硅晶片化学机械抛光液的研究进展
（www.188betkr.com 编辑整理/山林）
注：图片非商业用途，存在侵权告知删除！
