www.188betkr.com 讯近期,浙江奥博石英科技有限公司公布一项发明专利,专利名字为:一种半导体用高纯石英制作工艺。
该工艺选择1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐离子液体,可以实现石英的低温熔融,在较低的温度下将二氧化硅粉末转化为离子液体溶液,然后通过调控温度和压力,使溶液冷却凝固,得到高纯石英。节省能量的消耗,保护环境避免污染,提高了石英的纯度,提升其性能和稳定性,防止石英材料的形状和尺寸发生变化,从原来的几十个小时的生产时间降低至五个小时左右,大幅提升了高纯石英的生产效率。
具体来说,这种制作工艺包括以下步骤:
S1、原料准备:选用高纯度的二氧化硅粉末作为原料,要求纯度达到99.9%以上;
S2、进料和分级:采用气流分级法,将二氧化硅粉末按照粒径进行分级,将原料二氧化硅粉末通过进料系统送入气流分级器,气流速度1030米/秒,在气流的作用下,颗粒会按照粒径的大小进行分级。较大的颗粒会在上部分级出口排出,较小的颗粒会在下部分级出口排出;
S3、收集和再处理:分级出来的较大颗粒和较小颗粒需要分别进行收集,较大颗粒可以通过再磨细的方法进行再处理,以获得更细的粉末,而较小颗粒可以通过进一步的过滤,去除存在的杂质;
S4、重复分级:可以将较小颗粒再次进行气流分级,以去除更小的颗粒和杂质;
S5、离子混合物制作:在通过气流分级的方法获得更纯净的二氧化硅粉末中加入离子液体1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐,形成二氧化硅离子液体混合物;
S6、混合搅拌:使用搅拌设备将二氧化硅粉末和离子液体充分混合;
S7、加热:采用高压熔融炉将二氧化硅离子液体混合物加热至400-600℃,压力参数为200-250兆帕,使离子液体和二氧化硅粉末发生反应,实现二氧化硅低温熔化;
S8、冷却:将熔融二氧化硅冷却到-10℃至-20℃ ,冷却过程中冷却速率为50 -80℃/min,形成固态的高纯石英坯体;
S9、精加工:高纯石英坯体进行精加工,包括切割、研磨、抛光等以获得所需的形状、尺寸和表面质量。
S10、清洗和检测:对精加工后的高纯石英制品进行清洗,以去除表面污染物,同时进行质量检测,包括检测杂质含量光学性能、机械性能。
参考来源:国家知识产权局、浙江奥博石英科技有限公司官网
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