那一年，小编还在一个陶瓷厂搬砖，当时有一个陶瓷部件要带出去参展，这个陶瓷部件表面上稍微有了点污渍，于是领导委以重任，安排小编将其擦洗干净。由于当时没有专用的清洗剂，于是年轻的小编傻乎乎的用抹布和洗衣粉开始了一顿猛如虎的操作，事与愿违，污渍非但没有洗净，反而越洗越脏。
此时，一位老师傅恰从此过，抓过来一把氧化铝粉轻轻地对小编说：“有铝粉，没污渍”。奇迹出现了，用氧化铝粉一番摩擦清洗后，陶瓷部件竟然顿时“立白-立刻靓丽洁白”。
在领会到小编敬佩中夹杂惊奇的心情后，老师傅深藏功名扬长而去，留下小编伫立在水龙头前不禁遐想，氧化铝粉有如此功效，那用它来抛光清洗一下小编那长满青春痘像泼了一脸八宝粥的脸，效果应该非常棒！
这是一个真实的故事，后来小编学习了解到，原来氧化铝粉具有非常好的研磨抛光作用，很多人都在研究它。言归正传，接下来我们就来了解下氧化铝粉的抛光作用吧。
CMP和抛光液
我们先来了解一下CMP和抛光液，CMP是化学机械抛光的简称，而抛光液是CMP技术中的关键，抛光液主要由磨料、溶剂和添加剂组成，其种类、性质、粒径大小、颗粒分散度及稳定性等与最终抛光效果紧密相关。目前市场上使用最为广泛的几种磨料是 SiO2 、CeO2 、Al2O3。
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SiO2抛光液选择性、分散性好，机械磨损性能较好，化学性质活泼，并且清洗过程处理较容易；缺点为在抛光过程中易产生凝胶，对硬底材料抛光速率低。
CeO2抛光液的优点是抛光速率高，材料去除速率高； 缺点是黏度大、易划伤，且选择性不好，后续清洗困难。
氧化铝研磨抛光液因为它表面细腻、质地坚硬、密度高、耐磨性好、耐腐蚀等特点，所以它能适用于多种材质工件的表面研磨抛光处理，在工件的表面研磨抛光处理中用途广泛。
随着LED行业的发展，蓝宝石衬底的需求日益增长，Al2O3抛光液在CMP中的应用显得更为重要。
制备方法
1、固相法
固相法中的硫酸铝铵热解法、改良拜尔法、爆炸法等是比较成熟的制备方法。热解法是在空气中使硫酸铝铵热分解，以获得性能良好的 Al2O3粉末；改良拜尔法则利用硫酸钠溶液中和、老化得到氢氧化铝，之后进行脱钠、热分解，进而获得纳米氧化铝；爆炸法是通过炸药爆炸、放电爆炸释放的强能量控制氧化铝成型的方法。
固相法制备超细粉末的流程简单，无需溶剂，产率较高，但生成的粉末易产生团聚，且粒度不易控制，难以得到分布均匀的小粒径的高质量纳米粉体。
2、气相法
气相法主要有化学气相沉淀法，通过加热等方式改变物质形态，在气体状态下发生反应，之后在冷却过程中形成颗粒。气相法的优点是反应条件可以控制、产物易精制，颗粒分散性好、粒径小、分布窄，但产出率低，粉末难收集。
3、液相法
水解法是将异丙仲丁醇或异丙醇铝的醇溶液加入水中水解，通过控制水解产物的缩聚过程控制产生的颗粒大小，经过高温煅烧制得纳米氧化铝。
喷雾干燥法是将金属盐溶液以雾状喷入高温环境中，蒸发和金属热分解析出固相，直接得到纳米氧化铝。
溶胶凝胶法是将金属醇盐溶于有机溶剂中，通过蒸馏使醇盐水解、聚合形成溶胶, 溶胶中加入水分变成凝胶。凝胶在真空状态下低温干燥，得到疏松的干凝胶，之后高温煅烧得到纳米氧化铝粉末。
氧化铝抛光液的稳定性
氧化铝抛光液也是有缺点的，它的缺点在于选择性低、分散稳定性不好、易团聚等会导致抛光面出现划痕。
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1、团聚问题
氧化铝抛光液是用于样品的最终抛光，目的是为了去除肉眼看不见的表面变形层，为使用高倍物镜、偏振光、微分干涉对比来评价样品，或者使用EBSD技术时，能提供无变形的产品表面。因此对氧化铝抛光液的品质要求是很高的。用于纯粹机械抛光的氧化铝抛光液是不允许团聚的，一定要有好的分散性才好，这样才能高效地去除材料，达到优异的表面处理效果，否则会使抛光面出现划痕。而很多氧化铝抛光液总是没有将团聚问题解决好，抛光工作带来了难度。
2、改善方法
对纳米氧化铝表面改性的目的是提高颗粒表面规则度，减少抛光划痕和凹坑，同时提高氧化铝磨料分散度和抛光液稳定性。常见的处理方法为利用偶联剂、有机物、无机物等在硬度较高的氧化铝粒子表面包覆一层较软的物质以减少抛光划痕和凹坑等缺陷，进而改善氧化铝抛光液的稳定性和分散性，同时能有效提高抛光磨料的耐磨性能。
参考来源：
[1]彭进等.化学机械抛光液的发展现状与研究方向
[2]吴俊星等.氧化铝抛光液磨料制备及其稳定性研究进
[3]唐海红等.纳米氧化铝的制备及应用
[4]赵晓媛等.氧化铝系化学机械抛光磨料的制备及颗粒分级
[5]尹良果.纳米α-氧化铝的制备及其改性
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