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X射线透射显微成像/能谱(同步辐射)?strong>氮化硅薄膜窗叢/strong>
产品概述
X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)?*透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工?即薄膜与光束成一定角?时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透
氮化硅薄膜窗叢/strong>是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗叢/strong>非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等
现在提供X-射线显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下
外框尺寸 (4种标准规?:
5 mm x 5 mm (窗口尺寸?.0 mm或和 1.5 mm 方形)
7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸?.0 mm 2.5 mm)
10 mm x 10 mm (窗口尺寸?.0 mm 5 mm 方形)
边框厚度 200?m?81?m?25?m
Si3N4薄膜厚度?0?00?50?00nm
我们也可以为用户定制产品(30-500nm)，但?00片起订
本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗
技术指标：
透光度：
对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线(例如碳边吸收??00-200nm厚的氮化硅薄膜窗叢/strong>是用?*
真空适用性：
真空适用性数据如下：
薄膜厚度 窗口面积 压力
?0 nm ?.0 x 1.0 mm 1 atm
?00 nm ?.5 x 1.5 mm 1 atm
?00 nm ?.5 x 2.5 mm 1 atm
表面平整度：
氮化硅薄膜窗叢/strong>产品的表面平整性很稳定(粗糙度小?nm)，对于X射线应用没有任何影响
温度特性：
氮化硅薄膜窗叢/strong>产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料
化学特性：
氮化硅薄膜窗叢/strong>是惰性衬底
应用简介和优点
1、同步辐射X射线(紫外或极紫外)透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体
2、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜(薄膜直接沉积在窗口上)
3、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性
4、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征
5、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体
氮化硅薄膜窗叢/strong>系列
SN-LDE-505-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：55mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：50nm
SN-LDE-510-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：55mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：100nm
SN-LDE-515-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：55mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：150nm
SN-LDE-520-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：55mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：200nm
SN-LDE-705-25氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：7.57.5mm，窗口：2.52.5mm，膜厚：50nm
SN-LDE-710-25氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：7.57.5mm，窗口：2.52.5mm，膜厚：100nm
SN-LDE-715-25氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：7.57.5mm，窗口：2.52.5mm，膜厚：150nm
SN-LDE-720-25氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：7.57.5mm，窗口：2.52.5mm，膜厚：200nm
SN-LDE-105-30氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：1010mm，窗口：33mm，膜厚：50nm
SN-LDE-110-30氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：1010mm，窗口：33mm，膜厚：100nm
SN-LDE-115-30氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：1010mm，窗口：33mm，膜厚：150nm
SN-LDE-120-30氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：1010mm，窗口：33mm，膜厚：200nm
氮化硅薄膜窗叢/strong>阵列系列
SN-AR-522-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：55mm，窗口：1.51.5mm?2阵列，膜厚：50nm
SN-AR-733-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：7.57.5mm，窗口：1.51.5mm?3阵列；膜厚：50nm
SN-AR-1044-15氮化硅薄膜窗叢/strong>，框架：55mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：100nm
氧化硅薄膜窗口系
SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架?5mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：50nm
SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架?5mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：100nm
SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架?5mm，窗口：1.51.5mm，膜厚：150nm
SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架?.57.5mm，窗口：1.51.5mm?3阵列，膜厚：50nm
SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架?.57.5mm，窗口：1.51.5mm?3阵列，膜厚：100nm
SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架?.57.5mm，窗口：1.51.5mm?3阵列，膜厚：200nm
氮化硅薄膜窗叢/strong>系列
SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：1010mm，窗口：22mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm
SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：1010mm，窗口：22mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm
SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.57.5mm，窗口：22mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm
SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.57.5mm，窗口：22mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm
特殊定制产品
SN-5H5-15 氮化硅基底框架：55mm，硅片厚度：200um，窗口：1.51.5mm，膜厚：500nm
SN-5H10-15 氮化硅基底框架：55mm，硅片厚度：200um，窗口：1.51.5mm，膜厚：1000nm
SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整张?010mm切片
衬底厚度?00um 温度范围?000 真空适应?个大气压
厚度可以选择?00um?81um?25um，需要提前说明、/p>
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