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光学仪器及设夆/a>
比表面积测定?/a>
其他
光谱检测分析仪
分子生物学仪?/a>
制样/消解设备
半导体行业专用仪?/a>
X射线仪器
清洗/消毒设备
仪器简介:
采用**制造工艺,可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类:Quartz Molds Silicon Molds Polymer Molds of 2"?"?"。适用于Obducat,Suss,HP,EVG等多种型号的纳米压印设备、/p>
技术参数:
Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si SiNx SiC quartz,glass).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For smaller area minimum feature size of 50 nm.
提供各种材料的纳米压印模板(硅,氮化硅,碳化硅,石英玻璃)。模?*尺寸?英寸,特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸?小的特征尺寸可以达到50nm
?
Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers.
提供*?0nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板:任何导电或者非导电晶片
?
Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si III-V II-VI and polymers.
各种纳米结构(硅,III-V族元素,II-VI族元素以及聚合物)的微纳米加工、/p>
主要特点9/strong>
soft mold for thermal nanoimprint 热压印的软模
quartz mold for UV nanoimprint 紫外压印的石英模
silicon mold for thermal nanoimprint 热压印的硅模
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