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光学仪器及设夆/a>
比表面积测定?/a>
其他
光谱检测分析仪
分子生物学仪?/a>
制样/消解设备
半导体行业专用仪?/a>
X射线仪器
清洗/消毒设备
试验朹/a>
简今/span>
Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可寸/span>玻璃?/span>半导体及光电子材料进行表面检测、/span>Lumina AT1既能够检浊/span>SiC?/span>GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料,又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测,其价格优势使兵/span>成为适合于研叐/span>/小批量生产过稊/span>中品质管理及良率改善的有力工具、/span>
Lumina AT1结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与表面斜率等基本原理,以非破环性方式对Wafer表面的残留异物,表面与表面下缺陷,形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测、/span>
1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点;
2.坡度通道用于凹坑、凸起;
3.反射通道用于粗糙表面的颗粒;
4.暗场通道用于微粒和划痕;
二?/span>功能
l主要功能
1.缺陷检测与分类
2.缺陷分析
3.薄膜均一?/span>测量
4.表面粗糙度测野/span>
5.薄膜应力检浊/span>
l技术特炸/span>
1.透明、半透明和不透明的材料均可测量,比如硅、化合物半导体或金属基底:/span>
2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像:/span>
3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间丹/span>3分钟+/span>50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果:/span>
4.高抗震性能,系统不旋转,形状无关,可容纳非圆形和易碎的基底材料:/span>
5.高达300x300mm的扫描区域;可定位缺陷,以便进一步分析;技术能劚/span>
三、应用案侊/span>
1.透明/非透明材质表面缺陷检浊/span>
2. MOCVD外延生长成膜缺陷管控
3. PR膜厚均一性评件/span>
4. Clean制程清洗效果评价
5. Wafer?/span>CMP后表面缺陷分枏/span>
6.多个应用领域,如AR/VR?/span>Glass、光掩模版、蓝宝石?/span>Siwafer筈/span>
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