品牌：恩科优＇�/span>N&Q（�/span>

型号９�/span>NXQ400-8

产地：美囼�/span>

恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众�?*企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的**：�/span>

二、技术参数：

1、芯片尺寸：5mm~200mm的圆牆�/span>/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；

2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；

3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；

4、分辨率：优亍�/span>0.5um：�/span>

5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光：�/span>

6、出射光强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm：�/span>

7、支持恒定光强或恒定功率模式：�/span>

8、曝光时间：0.1~999.9s：�/span>

9、对准精度：双高清彩艱�/span>CCD +双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸�?/span> 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)：�/span>

11、光强均匀�?/span>Uniformity９�/span>

<��1% over 2“�/span>区域：�/span>

<��2% over 4“�/span>区域：�/span>

<��3% over 6“�/span>区域：�/span>

12、双面光刻：具备背面红外对准＇�/span>IR BSA）和光学背面对准＇�/span>OBS BSA），双面对准精度≣�/span>2��m：�/span>

13、电源：高灵敏度光强可控电源、�/span>

可选型号：

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、产品特点：

可选支持单面对准和双面对准设计：�/span>

高清晰彩色双CCD镜头采用***的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正皃�/span>CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；

高清彩色双显示屏：�/span>

全新气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；

具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能：�/span>

操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；

操控手柄调控模式皃�/span>独特设计：�/span>

采用LED穿透物镜照明技�?/span>，具有超强对准亮度；

采用基于无限远修正的显微镜镜夳�/strong>架构：�/span>

抗衍射反尃�/span>的高效光学光路设计；

带安全保护功胼�/span>的温度和气流传感器；

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度；

设备稳定性，耐用性超高；

产品相关关键字： 恩科优光刻机 紫外曝光� 掩膜曝光� 掩膜对准曝光系统 全自动光刻机