FR-Scanner扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成：

A)光学光源装置

小型低功率混合式光源

本系统混合了白炽灯和LED灯，*终形成光谱范図�/span>360nm- 1100nm；该光源系统通过微处理控制，光源平均寿命逽�/span>10000小时：�/span>

集成小型光谱仪，光谱范围360-1020nm＋�/span>分辨精度3648像素CCD咋�/span>16佌�/span>A/D分辨精度.

集成式反射探针，6组透射光探针（200um），1组反射光探针，探针嵌入光源头，可修整位置，确保探针无弯曲操作：�/span>

光源功率:3W;

B)超快扫描系统，平面坐标内，可进行625次测野�/span>/分钟(8’‘�/span>wafer)戕�/span>500次测野�/span>/分钟(300mm wafer).全速扫描时，扫描仪的功率消耗不超过200W：�/span>

样品处理台：样品处理尺寸可达300mm.可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可辽�/span>25mm；配月�/span>USB通讯接口，功率：100 - 230V 115W.

C) FR-Monitor膜厚测试软件系统＋�/span>

可精确计算如下参数：

1）单一或堆积膜层的厚度：�/span>

2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用、�/span>

D)参考样牆�/span>:

a)经校准过的反射标准硅片；

b)经校准过的带月�/span>SiO2/Si特征区域的样片；

E)附件