EZI UV Nanoimprint System PL600

EZI 紫外曝光纳米压印系统

EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600.

EZImprinting是一种超高产率（> 99％）纳米压印光刻系统，带有低�?0纳米的分辨率和一步自动释放功能、�/span>

特点９�/span>

?全晶圆压�?/span> - PL600适用亍�/span>6英寸晶圆处理� PL400适用亍�/span>4英寸晶圆处理

?低于10纳米分辨率，产率高达99＄�/span>

?一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量**匕�/span>

?支持各种类型的硬模和软模

?可变模具和基材尺寸，灵活方便

?可编稊�/span>PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面

?对准功能选项

?多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导佒�/span>IC，化学合成和先进材料筈�/span>

?专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容

PL600

基材尺寸＋�/span>6“标准（尺寸较小，形状不规则（�/span>

印记区：与晶圆尺寸相同、�/span>

模板尺寸6”，4� �?� and 1“�/p>

压印压力: 1 psi标准

模具/基材自动释放:包括-不需要特殊工其�/span>

紫外线曝光时闳�/span>:�?/span>95％强度水平下2-3分钟

对准功能: x＋�/span>y＋�/span>z咋�/span>theta（精�?/span>2um（�/span>