该平台提供具有微定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室，UV固化源和对准显微镜、�/div> 它即可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模对准器，同时提供可编程的自动控制功能、�/span>

EZI UV Nanoimprint System PL400

特点９�/span>

?全晶圆压�?/span> - PL600适用亍�/span>6英寸晶圆处理� PL400适用亍�/span>4英寸晶圆处理

?低于10纳米分辨率，产率高达99＄�/span>

?一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量**匕�/span>

?支持各种类型的硬模和软模

?可变模具和基材尺寸，灵活方便

?可编稊�/span>PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面

?对准功能选项

?多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导佒�/span>IC，化学合成和先进材料筈�/span>

?专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容

EZ Imprinting处理器参数：

基材尺寸: 4“标准（尺寸较小，形状不规则（�/span>

印记匹�/span> :与晶圆尺寸相同、�/span>

模板尺寸4”，2� and 1“�/p>