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CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印?/span>UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放?*可处琅/span>210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程、/span>
纳米压印机特色:
?体积小巧,容易存放,桌面型;
?轻微复制微米和纳米级结构:/span>
?热压印温度高辽/span>200ℂ/span>:/span>
?可选的高温模块,适用亍/span>250ℂ/span>:/span>
?UV纳米压印+/span>365nm曝光:/span>
?可选的UV模块,适用亍/span>405nm曝光:/span>
?真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);
?纳米压印压力高达11bar:/span>
?温度分布均匀、读数精准;
?笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;
?直径**210mm(圆形)腔室:/span>
?腔室高度丹/span>20mm:/span>
?即插即用
?使用简单直见/span>
?专为研发而设讠/span>
?提供安装和操作教程视颐/span>
在过去的五年中,基于石墨烯的气体传感器引起了极大的兴趣,显示出了单分子检测的优势、/span>*近的研究表明,与未构图的层相毓/span>+/span>构图石墨烯可大大提高灵敏?/span>.
使用软压印在CNI v2.0中进行热纳米压印光刻,将mr-I7010E压印抗蚀剂在130℃,6bar压力下压?/span>10分钟,压力在70℃下释放、/span>
通过反应离子蚀刻将边缘到边缘间隔为120-150nm的大面积图案的孔转移到石墨烯中,并且用丙酮除去残留的抗蚀剂、/span>
发现器件具有大约的载流子迁移率发现器件在加工前具有约2000cm2/Vs的载流子迁移率,之后具有400cm2/Vs的载流子迁移率处理,同时保持整体低掺杂水平、/span>