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湿法显影掩膜版清洗系绞/span>
手动垊/span>SCS112
SCS112型是一款高效率手动型的系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片。可通过施加高压DI水射流或雾化喷嘴来清洁安装在环(抓环)或胶片框架上的晶圆,然后使用高转速,氮气辅助或红外加热灯进行快速干燥。该系统**可处琅/span>8英寸晶圆、/span>
功能9/span>
可处理高辽/span>8英寸的晶圆,包括未安装的晶片以及胶带环形和薄膜框架安装晶片、/span>
振荡高压直流水,风扇射流组装(取决于高辽/span>1500戕/span>2000磄/span>/平方英寸配置三/span>)或雾化喷雾喷嘴,高效清洁、/span>
快速有效干燥的氮气吹扫和循环结束时的氮晶片提升、/span>
微处理器控制并储存多种配方、/span>
直流无刷主轴电机变速、/span>
DI水净化,营造无细菌系统、/span>
内置安全联锁和正极盖,运行期间锁定、/span>
选项
托盘?*可装轼/span>8英寸晶片
用于干燥的红外线加热?/span>
消除静电的二氧化碳再生离子器
内置排气鼓风朹/span>
真空发生?/span>
产品参数9/p>
产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统
型号9/span>SCS112
可用机械臂:1
**基板尺寸:高辽/span>8英寸的晶圆片
**主轴速度9/span>2500
配方?夙/span>3
分配9/span>1
尺寸9/span>26英寸宼/span>x 21英寸淰/span>x 40英寸髗/span>
重量:约200磄/span>
功率9/span>220伏交流电+/span>10安培+/span>50/60赫兹
手动垊/span>SCSe124
SCSe124型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术、/span>SCSe124可以配置几种不同的清洁选项,包括高厊/span>DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯、/span>SCSe124具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序、/span>
功能9/span>
可处理直径高辽/span>10英寸的基板、/span>
主轴组件带有直流无刷电机(可升级以获得更多功能)、/span>
可调节机械臂速度和行程位置、/span>
径向排气腔,可实?*层流、/span>
独立式聚丙烯腔室、/span>
微处理器可控刵/span>10个程序段、/span>
内置安全联锁、/span>
按钮盖启?/span>打开/关闭、/span>
触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告、/span>
*多可使用2个机械臂、/span>
产品参数9/p>
产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统
型号9/span>SCSe124
可用机械臂:2
**基板尺寸:直徃/span>10英寸晶圆牆/span>
**主轴速度9/span>2500
配方?夙/span>10
分配9/span>12
手动垊/span>SCSe126
SCSe126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术、/span>SCSe126可以配置几种不同的清洁选项,包括高厊/span>DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯、/span>SCSe126具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序、/span>
功能9/p>
可处理直径高辽/span>10英寸的基板、/span>
主轴组件带有直流无刷电机(可升级以获得更多功能)、/span>
可调节机械臂速度和行程位置、/span>
?径向排气腔,可实?*层流、/span>
?独立式聚丙烯腔室、/span>
?微处理器可控刵/span>10个程序段、/span>
?内置安全联锁、/span>
?按钮盖启?/span>打开/关闭、/span>
?触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告、/span>
?*多可使用4个机械臂、/span>
产品参数9/p>
产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统
型号9/span>SCSe126
可用机械臂:4
**基板尺寸:直徃/span>10英寸晶圆牆/span>
**主轴速度9/span>2500
配方?夙/span>10
分配9/span>12