应用领域

应用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的研磨抛光，也可用来研磨抛光特殊材� ，诸如硅、硒化锌、砷化镓的后道抛光、�br/>

白色阻尼布抛光垫９�/strong>
具有**的相互连接的微孔结构，在进行粗抛光处理时能具备优异的去除率、抛光稳定性和耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用，用于对陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或中抛，以获得没有缺陷的晶片表面、�br/>

外观	白色	形状	圆形
厚度	T0.5-3.0mm	邵氏硬度（A（�/span>	70-95±2
刻槽	T&U型槽 10-20mm	槽深	0.8±0.2mm
槽宽	1.8±0.2mm	密度	0.47±0.03g/mm³
内粘结力	2800（gf/20mm（�/span>	外粘结力	2600（gf/20mm（�/span>
延展率（压缩比）	6.3±3%	背胶	3M进口PET双面胵�/span>
常用规格	Φ127/Φ180/Φ610/Φ710/Φ820/Φ920/Φ980/Φ1100-Φ1280mm

白色抛光皮的优势９�/strong>
1）去除率高，质量稳定，耐磨性好：�/span>
2）具有中柔软度和弹性，能有效避免划伤；
3）表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液，提高抛光效率：�/span>
4）背胶易撕，不留残胶，使用方便、�/span>
使用说明９�/strong>
1. 撕离抛光皮背面离型纸，将抛光皮均匀贴附于机台操作面，注意不要留有气泡；
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用：�/span>
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁、�/span>
黑色阻尼布抛光垫
具有**的相互连接的微孔结构，在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定�?耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用，适用于晶片、蓝宝石、石英、玻璃、金属、陶瓷的高平坦化超精密抛光，抛光后精度可�?.0002，可�?*的镜面效果、�br/>

外观	黑色	形状	圆形
厚度	T0.5-3.0mm	邵氏硬度（A（�/span>	70-90±2
刻槽	开� 0.5-20mm	槽深	0.5±0.2mm
槽宽	1.8±0.2mm	密度	0.60±0.05g/mm³
内粘结力	2800（gf/20mm（�/span>	外粘结力	2600（gf/20mm（�/span>
延展率（压缩比）	6.3±3%	背胶	3M进口PET双面胵�/span>
常用规格	Φ127/Φ180/Φ610/Φ710/Φ820/Φ920/Φ980/Φ1100-Φ1280mm

黑色抛光皮的优势９�/strong>
1）质量稳定，耐磨性好：�/span>
2）具有良好的柔软度和弹性，能有效避免划伤；
3）表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液，提高抛光效率：�/span>
4）背胶易撕，不留残胶，使用方便、�/span>
使用说明９�/strong>
1. 撕离抛光皮背面离型纸，将抛光皮均匀贴附于机台操作面，注意不要留有气泡；
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用：�/span>
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁、�/span>