立式LPCVD低压气相沉积炈/div>
报价9span>面议
品牌9/td> 育豪微电孏/td>
产地9/td> 山东
关注度: 106
型号9/td> 立式LPCVD低压气相沉积炈/td>
核心参数

非金属电热元件:其他

金属电热元件9span>其他

烧结气氛9span>其他

产品介绍

立式LPCVD低压化学气相淀积设备是半导体集成电路制造的重要工序之一,本设备主要用于?-12英寸硅片SiO2-LTO TEOS、SIPOS-含氧多晶硅、SI3N4-氮化硅、BPSG-磷硅玻璃、POLY-多晶硅、TEOS-氧化硅薄膜的生长。它是将原材料气体(或者液态源气化)用热能激活发生化学反应而在基片表面生成固体薄膜。低压化学气相淀积是在低压下进行的,由于气压低,气体分子平均自由程大,使生长的薄膜均匀性好,而且基片可以竖放而装片量大,特别适用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的工业化生产专用设备,采用电脑工控机软件控制方式,是其性能技术指标已经达到国际先进技术水平、/span>

问商宵/div>
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青岛育豪微电子设备有限公司为您提供育豪微电子立式LPCVD低压气相沉积炉,立式LPCVD低压气相沉积炉产地为山东,属于箱式炉,除了立式LPCVD低压气相沉积炉的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供在线式连续真空炉、磷化铟多晶合成炉、高温管式炉
工商信息
企业名称

青岛育豪微电子设备有限公号/p>

企业类型

信用代码

91370214679063197B

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