美国SVT 脉冲激光沉积设�?PLD应用

� 多元素复合氧化物

� 高温超导材料

� 磁性材料、金属材斘�/span>

� 低蒸汽压材料

� MEMS

基本系统

腔室及真空泵

12’� 快速门�?50l/s 分子泵，全量程规

沉积溏�/span>

靶台�?X1’�?25mm) 靶，可以水平旋转＋�/span>可Z方向移动

样品�?/span>

1’�?25mm)大小，可加热�?00oC�?000oC可选），可水平旋转，可Z方向移动

在线工艺监控

石英晶振沉积速率监控�?/span>

自动匕�/span>

自动化装置：

控制样品温度和旋�?/span>

靶台的位置控刵�/span>

靶台旋转

气体控制

速率及厚度计算（利用QCM输出（�/span>

激光束扫描（可选）

激光束屏蔽控制

自动泵抽和充氓�/span>

差分泵抽结构

RHEED分析（可选）

装载室压强监控（可选）

美国SVT 脉冲激光沉积设�?PLD主要特点
RF射频等离子源(氧，�?
升级高真穹�br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>增加进样宣�br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>升级为Laser-MBE （L-MBE）系绞�br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>自动软件控制

提供更洁净的薄膜生长环�?控制解决方案