HTAF-1400-12真空气氛炉满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设夆�/span>.

HTAF-1400-12真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系绞�/span>(可逈�/span>)。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。炉膛材料采用优质的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度°�/span>5℃，升温速率1~20℃可任意置。可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准、�/span>

真空气氛炉又名无氧退火炉、真空气氛烧结炉等，物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法。不同的材料选择适宜的气氛烧结，有助于烧结过程，提高制品致密化程度、获得良好的性能的制品。真空气氛炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体（如氩）等各种气氛。例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结，透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结，氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结、�/span>有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。如钼丝炉宜通氢，钨丝炉宜在真空条件下工作、�/span>