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碳膜溅射设备 CS-200
报价9span>面议
品牌9/td> 万德思诺
产地9/td> 天津
关注度: 120
型号9/td> 碳膜溅射设备 CS-200
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产品介绍

产品图片9/span>

产品型号9/span>

CS-200

产品介绍9/span>

Dense carbon film for high temp.anneal

Max. Substrate φ200㎛/span>(Transfer tray available(/span>

产品特点9/span>


    • 1. Key point for carbon process
      - Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processesare well known.

    • 2. Good process experience for CC deposition
      - AIST and SIC production company uses ULVAC system.

    • 3. Optional items
      - High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.


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天津市万德思诺国际贸易有限公司为您提供万德思诺碳膜溅射设备 CS-200,碳膜溅射设 CS-200产地为天津,属于半导体行业专用仪器,除了碳膜溅射设备 CS-200的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供激活退火设 Ailesic-1500、中型高速研磨设 STC-610、MIST-CVD氧化物薄膜沉积设 M150A
工商信息
企业名称

天津市万德思诺国际贸易有限公司

企业类型

信用代码

91120103MA06P45U7J

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