氮化硅片

可提供各种规格高质量氮化硅片，及氮化硅片加工定制服务、�/p>

• 尺寸�?,3,4,5,6,8,12英寸；定制尺寸；

• 晶向�?lt;100>�?lt;111>�?lt;110：�!--111-->

• 氮化层SiO2膜厚；厚度：5nm-10um，常规：100-500nm：�/p>

• 表面：单面氧化、双面氧化；

• 加工方法：氧化炉/PECVD等；

• 类型：N型、P型、非掺杂高阻：�/p>

• 电阻率：重掺�?lt;0.001ω.cm,轻掺�?~100ω.cm,非掺>1000~>20000Ω.cm：�!--0.001ω.cm,轻掺�?~100ω.cm,非掺-->

氮化硅片

可提供各种规格高质量氮化硅片，及氮化硅片加工定制服务、�/p>

• 尺寸�?,3,4,5,6,8,12英寸；定制尺寸；

• 晶向�?lt;100>�?lt;111>�?lt;110：�/p>

• 氮化层SiO2膜厚；厚度：5nm-10um，常规：100-500nm：�/p>

• 表面：单面氧化、双面氧化；

• 加工方法：氧化炉/PECVD等；

• 类型：N型、P型、非掺杂高阻：�/p>

• 电阻率：重掺�?lt;0.001Ω.cm,轻掺�?~100Ω.cm,非掺>1000~>20000Ω.cm：�/p>