主要技术指标：

基材厚度：PET:10-125μm；PI:8-75μm

有效镀膜幅宽：1300mm

6组溅射阴极，其中1组孪生阴�?/p>

纯金属溅射靶材利用率�?5%；反应溅射靶材利用率�?0%：�/p>

真空抽率：卷绕室从大气状态到2×10-2Pa，需要时间≤35min

镀膜室（清洁、空载）极限压力：≤5×10-4 Pa：�/p>

卷绕室压升率（清洁、空载）：≤0.5Pa/hr（深冷冷阱工作）

放、收卷径�?00mm(**)；放、收卷芯轴直径：6 inch(150mm) ：�/p>

反馈控制：磁控溅射反馈补气响应时间≤45μs

镀膜均匀性，重复性测试：�?250mm幅宽范围内溅射均匀性≤±3%

反应溅射气体反馈控制系统（可选）：实现对反应溅射的精细控制；

前处理：烘烤解热和线性离子源

在线光学反射率传感系统或欧姆测量传感系统

张力控制范围�?-500N ，控制精度：±1%

基膜走速：0.5�?0�?分钟