微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系�?nbsp;

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一款先进的碟形腔体微波等离子体化学气相沉积设备，可应用于单晶金刚石和多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜的化学气相沉积以及材料表面处理、改性及掺杂等相关研究工作、�/span>

微波输入采用下馈的方式，为腔体结构的优化提供了更大的空间、�/span>

该设备可以在相对大面积的衬底上进行单晶和多晶金刚石生长，具备平面和非平面金刚矲�span style="line-height: 24px; font-family: arial, helvetica, sans-serif;">（HDC（�/span>的生长能力。其中，单晶金刚石沉积厚度上限不低于6mm，多晶金刚石沉积厚度上限不低亍�/span>500μm、�/span>

֍采用高效散热的样品台

֍产品沉积速率快、沉积质量高

֍稳定的微波输�?/span>

֍**功率达到10kW

֍�?/span>能先进，安全、可靠性强、重现性好

֍多参数实时监测、多重联锁保护与报警

֍为用户提供沉积工艺解决方桇�/span>

微波溏�/span>

6kW戕�span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif;">10kW可选，2.45GHz