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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
报价9span>面议
品牌9/td> 北京泰科诹/td>
产地9/td> 北京
关注度: 235
型号9/td> 热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
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产品介绍

设备名称:热 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号:HF1200

真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冶/p>

真空腔室尺寸:?200mmxH1200mm

真空系统:高真空泵组系统

基片台尺寸:Φ500mm²×600mm² 方形基片台(旋转、升降可选)

衬底温度?00 1100ℂ/p>

电源:专用热丝电 2200A, 恒流或恒功率模式

气路控制? 路气体流量控刵/p>

控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控刵/p>

占地面积:主 L5000mm×W3000mm×H4000mm

总功率: 300kW

设备名称:热 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号:HF1200

真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冶/p>

真空腔室尺寸:?200mmxH1200mm

真空系统:高真空泵组系统

基片台尺寸:Φ500mm²×600mm² 方形基片台(旋转、升降可选)

衬底温度?00 1100ℂ/p>

电源:专用热丝电 2200A, 恒流或恒功率模式

气路控制? 路气体流量控刵/p>

控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控刵/p>

占地面积:主 L5000mm×W3000mm×H4000mm

总功率: 300kW


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北京泰科诺科技有限公司为您提供北京泰科诺热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200,热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200产地为北京,属于半导体行业专用仪器,除了热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供热丝CVD金刚石膜沉积设备HF600、高真空磁控溅射镀膜设备JCP200、热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
工商信息
企业名称

北京泰科诺科技有限公司

企业类型

信用代码

9111011475217349XB

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