ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
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品牌9/td> 佳鼎半导佒/td>
产地9/td> 山东
关注度: 657
型号9/td> ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
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产品介绍

TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为 45 纳米及以下分辨率 300 毫米晶圆批量生产而设计、/span>


XT?900Gi采用蔡司星石1900i浸没镜头。这是现有的大型ArF镜头,在1.35NA时,它推动了水基ArF浸入式平版印刷达到极限。结合ASML的Ultra-k1产品组合,它提供了行?低的可用k1值,它可以实?0nm及以下的半间距分辨率、/span>

XT?900Gi采用新的测量和曝光周期,它为浸入式光刻设定了一个新的基准,每小时生?31个晶片、/span>

ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
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