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LPCVD低压化学气相沉积设备（科研型LPCVD）简今�/span>

是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造、�/span>

设备结构及特炸�/span>

1、小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本
两种基片尺寸2英寸�?英寸；每次装�?�?片、�/span>

基片放置方式：配置三种基片托架，竖直、水平卧式、带倾角、�/span>

基片形状类型：不规则形状的散片、�?�?英寸标准基片、�/span>

2、设备为水平管卧式结枃�/span>

由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成、�/span>

反应室由高纯石英制成，耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使�? 设备电控部分采用了先进的检测和控制系统，量值准确，性能稳定、可靠、�/span>

LPCVD设备主要技术指栆�/span>

类型	参数
成膜类型	Si3N4、Poly-Si、SiO2筈�/span>
**温度	1200ℂ�/span>
恒温区长�?/span>	根据用户需要配�?/span>
恒温区控温精�?/span>	≤�?.5ℂ�/span>
工作压强范围	13�?330Pa
膜层不均匀�?/span>	≤�?＄�/span>
基片每次装载数量	标准基片:1�?牆�不规则尺寸散牆�若干
压力控制	闭环充气式控刵�/span>
装片方式	手动进出样品

LPCVD低压化学气相沉积设备（生产型LPCVD（�/span>简今�br style="box-sizing: border-box; border-width: 0px; border-style: solid; border-color: rgba(229, 231, 235, var(--tw-border-opacity)); --tw-translate-x: 0; --tw-translate-y: 0; --tw-rotate: 0; --tw-skew-x: 0; --tw-skew-y: 0; --tw-scale-x: 1; --tw-scale-y: 1; --tw-transform: translateX(var(--tw-translate-x)) translateY(var(--tw-translate-y)) rotate(var(--tw-rotate)) skewX(var(--tw-skew-x)) skewY(var(--tw-skew-y)) scaleX(var(--tw-scale-x)) scaleY(var(--tw-scale-y)); --tw-border-opacity: 1; --tw-ring-inset: var(--tw-empty); --tw-ring-offset-width: 0px; --tw-ring-offset-color: #fff; --tw-ring-color: rgba(59, 130, 246, 0.5); --tw-ring-offset-shadow: 0 0 #0000; --tw-ring-shadow: 0 0 #0000; --tw-shadow: 0 0 #0000; --tw-blur: var(--tw-empty); --tw-brightness: var(--tw-empty); --tw-contrast: var(--tw-empty); --tw-grayscale: var(--tw-empty); --tw-hue-rotate: var(--tw-empty); --tw-invert: var(--tw-empty); --tw-saturate: var(--tw-empty); --tw-sepia: var(--tw-empty); --tw-drop-shadow: var(--tw-empty); --tw-filter: var(--tw-blur) var(--tw-brightness) var(--tw-contrast) var(--tw-grayscale) var(--tw-hue-rotate) var(--tw-invert) var(--tw-saturate) var(--tw-sepia) var(--tw-drop-shadow); --tw-backdrop-blur: var(--tw-empty); --tw-backdrop-brightness: var(--tw-empty); --tw-backdrop-contrast: var(--tw-empty); --tw-backdrop-grayscale: var(--tw-empty); --tw-backdrop-hue-rotate: var(--tw-empty); --tw-backdrop-invert: var(--tw-empty); --tw-backdrop-opacity: var(--tw-empty); --tw-backdrop-saturate: var(--tw-empty); --tw-backdrop-sepia: var(--tw-empty); --tw-backdrop-filter: var(--tw-backdrop-blur) var(--tw-backdrop-brightness) var(--tw-backdrop-contrast) var(--tw-backdrop-grayscale) var(--tw-backdrop-hue-rotate) var(--tw-backdrop-invert) var(--tw-backdrop-opacity) var(--tw-backdrop-saturate) var(--tw-backdrop-sepia);"/>

;设备电控部分采用了先进的检测和控制系统，量值准确，性能稳定、可靠、�/span>

整个工艺过程由计算机对全部工艺流程进行管理，实现炉温、气体流量、压力、阀门动作、泵的启闭等工艺参数进行监测和自动控制。也可以手动控制、�/span>

设备主要技术指栆�/span>

类型	参数
成膜类型	Si3N4、Poly-Si、SiO2筈�/span>
**温度	1200ℂ�/span>
恒温区长�?/span>	根据用户需要配�?/span>
恒温区控温精�?/span>	≤�?.5ℂ�/span>
工作压强范围	13�?330Pa
膜层不均匀�?/span>	≤�?＄�/span>
基片每次装载数量	100牆�/span>
设备总功玆�/span>	16kW
冷却水用野�/span>	2m3/h
压力控制	闭环充气式控刵�/span>
装片方式	悬臂舟自动送样

LPCVD软件控制界面