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高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机（�/span>采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等、�br style="box-sizing: border-box;border-width: 0px;border-style: solid;border-color: rgba(229, 231, 235, var(--tw-border-opacity));--tw-translate-x: 0;--tw-translate-y: 0;--tw-rotate: 0;--tw-skew-x: 0;--tw-skew-y: 0;--tw-scale-x: 1;--tw-scale-y: 1;--tw-transform: translateX(var(--tw-translate-x)) translateY(var(--tw-translate-y)) rotate(var(--tw-rotate)) skewX(var(--tw-skew-x)) skewY(var(--tw-skew-y)) scaleX(var(--tw-scale-x)) scaleY(var(--tw-scale-y));--tw-border-opacity: 1;--tw-ring-inset: var(--tw-empty);--tw-ring-offset-width: 0px;--tw-ring-offset-color: #fff;--tw-ring-color: rgba(59, 130, 246, 0.5);--tw-ring-offset-shadow: 0 0 #0000;--tw-ring-shadow: 0 0 #0000;--tw-shadow: 0 0 #0000;--tw-blur: var(--tw-empty);--tw-brightness: var(--tw-empty);--tw-contrast: var(--tw-empty);--tw-grayscale: var(--tw-empty);--tw-hue-rotate: var(--tw-empty);--tw-invert: var(--tw-empty);--tw-saturate: var(--tw-empty);--tw-sepia: var(--tw-empty);--tw-drop-shadow: var(--tw-empty);--tw-filter: var(--tw-blur) var(--tw-brightness) var(--tw-contrast) var(--tw-grayscale) var(--tw-hue-rotate) var(--tw-invert) var(--tw-saturate) var(--tw-sepia) var(--tw-drop-shadow);--tw-backdrop-blur: var(--tw-empty);--tw-backdrop-brightness: var(--tw-empty);--tw-backdrop-contrast: var(--tw-empty);--tw-backdrop-grayscale: var(--tw-empty);--tw-backdrop-hue-rotate: var(--tw-empty);--tw-backdrop-invert: var(--tw-empty);--tw-backdrop-opacity: var(--tw-empty);--tw-backdrop-saturate: var(--tw-empty);--tw-backdrop-sepia: var(--tw-empty);--tw-backdrop-filter: var(--tw-backdrop-blur) var(--tw-backdrop-brightness) var(--tw-backdrop-contrast) var(--tw-backdrop-grayscale) var(--tw-backdrop-hue-rotate) var(--tw-backdrop-invert) var(--tw-backdrop-opacity) var(--tw-backdrop-saturate) var(--tw-backdrop-sepia)"/>

设备构成

-单镀膜室

-单镀膜室＋进样室

-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内（�/p>

-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内（�/p>

-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手（�/p>

设备组成

电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成、�/p>

热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置、�/p>

可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱、�/p>

热蒸发源种类及配�?/span>

电阻热蒸发源组件：数量：1�?2套（可根据用户要求配装）：�/p>

电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）、�/p>

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机（�/span> 工作条件（实验室应具备的设备工作条件（�/span>

供电�?kW，三相五线制� AC 380V

工作环境湿度�?0℃～ 40ℂ�/p>

工作环境温度：≤50%

冷却循环水：0.2m³/h，水�?8℃～ 25ℂ�/p>

水压�?.15MPa � 0.25MPa

真空性能

极限真空�?×10^-5Pa�?×10^-6Pa

设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa

操作方式

手动、半自动