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反应离子刻蚀PECVD系统
报价９span>面议
| 品牌９/td> | 创世?/td> |
| 产地９/td> | 北京 |
| 关注度： | 194 |
| 型号９/td> | 反应离子刻蚀PECVD系统 |
产品介绍
Oracle III 多腔室系绞/p>
由中央真空传输机?CVT)、真空盒升降机和至多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。Oracle III是非常灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置（使用单基片装卸），也可以为批量生产进行配置（使用真空盒升降机进行基片传送）、br/>由于Oracle III至多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP（反应离子刻蚀?电感耦合等离子）刻蚀和PECVD沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁，工艺运行可靠且没有大气污染、/p>
问商宵/div>
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北京创世杰科技发展有限公司为您提供创世杰反应离子刻蚀PECVD系统，反应离子刻蚀PECVD系统产地为北京，属于半导体行业专用仪器，除了反应离子刻蚀PECVD系统的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供微波等离子体化学气相沉积系统MPCVD、化学气相沉积PECVD系统、超大行程引线键合机
工商信息
企业名称
北京创世杰科技发展有限公司
企业类型
信用代码
9111010680221692XQ
法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
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经营范围
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