产品简介：

EVG 610是一款入门级光刻机，支持接近式、软接触、硬接触、真空接�?种曝光方式，可选配背面对准模块。也可用于键合对准及纳米压印光刻（NIL），是科研开发用户的理想选择、�/p>

主要特点及参数：

·**支持8英寸�?00mm）晶圅�/p>

·顶部及底部对准：

顶部对准精度≤�?.5μm

底部对准精度≤�?μm

红外对准精度≤�?μm（取决于衬底材料（�/p>

键合对准精度≤�?μm

纳米压印对准精度≤�?μm

·支持汞灯或UV-LED光源

·自动楔形补偿程序

·可选配功能９�/p>

键合对准

红外对准

纳米压印光刻（NIL（�/p>