双腔室超高真空双磁控测射系统 QBT-P

磁控溅射技术原琅�/span>

在阴�?/span>靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后，并不直接飞向阳极，而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆纾�/span>的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量，使之电离而本身变成低能电子。这些低能电�?终沿磁力线漂移到阴极附近的辅助阳极而被吸收，避免高能电子对极板的强烈轰击，消除了二�?/span>溅射中极板被轰击加热和被电子辐照引起的损伤，体现出磁控溅射中极板“低温”的特点。由于外加磁场的存在，电子的复杂运动增加了电离率，实现了高速溅射、�/span>

磁控溅射技术特炸�/span>

成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面�?/span>镀膛�/span>

技术参�?/span>

工艺展示