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公斤级粉体原子层沉积镀膜系绞/div>
报价9span>面议
品牌9/td> 韫茂科技
产地9/td> 福建
关注度: 3175
型号9/td> G1000
核心参数

全容积(m³):/

能耗:/

处理量:1-100Kg

物料类型9span>粉状

工作原理9span>其他

产品介绍

国内高端粉末式原子层沉积系统GM系列



4.jpg

原子层沉积(Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术,具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜?nbsp;

5.jpg

产品描述

厦门韫茂科技公司的GM系列自动粉末原子层沉积设备它可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长+/span>GM1000的反应室可自动运行ALD(原子层沉?或MLD(分子层沉?+/span>设备配有独立控制?00℃完整加热反应腔室系统,保证工艺温度均匀。该系统具有**粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制,以及现场RGA、QCM、臭氧发生器、手套箱等设计选项。是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用?*研发工具、/span>


主要技术参?/span>

G100 Powder ALD

技术参 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备)

样品**装载 Capacity 100g(可根据需求定? 也可放置3D基体及多片平牆/td>
样品反应温度 Heating RT-300ℂ/td>
前驱 Max Precursor **可包?组反应气 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors
前驱体加?*温度 Max Precursor Heating RT-200ℂ/td>
包覆均一 Uniformity <3%
成膜速率 Deposition Rate 1-2A/Cycle (Al2O3)
臭氧发生器Ozone Generator 可选配,生产效?5g/h
人机界面 HMI 全自动化人机操作界面
安全Safety 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO


G1000 Powder ALD

技术参 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制备)

样品**装载 Capacity 1000g(可根据需求定? 也可放置3D基体及多片平牆/td>
样品反应温度 Heating RT-300ℂ/td>
前驱 Max Precursor **可包?组反应气 8组液态或固态反应前驱体, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors
前驱体加?*温度 Max Precursor Heating RT-300ℂ/td>
包覆均一 Uniformity <3%
成膜速率 Deposition Rate 1-2A/Cycle (Al2O3)
臭氧发生器Ozone Generator 可选配,生产效?5g/h
人机界面 HMI 全自动化人机操作界面
安全Safety 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock,报警Alarm,EMO



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厦门韫茂科技有限公司为您提供韫茂科技公斤级粉体原子层沉积镀膜系统,公斤级粉体原子层沉积镀膜系统产地为福建,属于混合机,除了公斤级粉体原子层沉积镀膜系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供超高真空多腔体磁控溅射系统、公斤级粉末ALD、单腔型高真空蒸镀系统
工商信息
企业名称

厦门韫茂科技有限公司

企业类型

信用代码

91350200MA31JEYQ4Y

法人代表

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成立日期

注册资本

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