PML 2

PML 2 是开发新型湿法研磨工艺的**解决方案� 其核心部件是坚固有力的驱动器和控制单元，根据具体用途，它们可与不同的研磨腔结合使用� 如果用于真实研磨、电子材料的无金属污染的软研磨或纳米级的应用 —� PML 2 即为正确的解决方案、�/span>

模块化设计，应用范围幾�/strong>

• PML 2 适用于中低粘度的物料：�/p>

• 可选择立式或卧式操作位置、�/p>

全容积珠磨机、环状研磨腔和纳米级珠磨朹�/strong>

• 现有的加工设备包括：Centex� 全容积盘片式珠磨机，SuperFlow� 4 作为高性能环形珠磨机进行再循环研磨，MicroMedia� L 作为纳米级珠磨机，适于 20 � 400 μm 的研磨介质；

• 研磨腔容积有小至 50 Ml 的纳米珠磨机 MicroMedia� L，也有大� 0.85 l 的全容积珠磨� Centex� S2、�/p>

试验参数的再现�?/strong>

• 数据记录系统 WinTrend 可运� PREMIUM 版本，实现连续的过程监测，确保生产过程可再现、�/p>

研磨腔可选配各种材质

• 现有的研磨腔材质包括多种不同的陶瓷、合成材料和硬质合金、�/p>